[发明专利]一种手机塑胶机壳镭雕后残渣的清洗方法

权利要求书

1.一种手机塑胶机壳镭雕后残渣的清洗方法，其特征在于，需要应用的清洗设备包括有依次排列的减压真空清洗机、超声波清洗机和真空清洗干燥机；

减压真空清洗机包括有减压蒸馏清洗槽、真空蒸馏回收槽、冷凝储液槽、废液回收槽；

减压蒸馏清洗槽的底部和真空蒸馏回收槽的下部连通；

减压蒸馏清洗槽的顶部连接有一个真空泵；

冷凝储液槽安装固定在真空蒸馏回收槽的上方，并与真空蒸馏回收槽的顶部连通；

废液回收槽安装固定在真空蒸馏回收槽的下方，并与真空蒸馏回收槽的底部连通；

超声波清洗机包括有超声波清洗槽和第一储液槽，超声波清洗槽的底部和第一储液槽的下部连通；

真空清洗干燥机包括有蒸汽清洗干燥槽、第二储液槽，蒸汽清洗干燥槽的底部和第二储液槽的下部连通；

蒸汽清洗干燥槽的顶部连接有一个真空泵；

上述清洗方法，包括下列步骤：

步骤1：将溶剂分别加入到减压蒸馏清洗槽、冷凝储液槽、超声波清洗槽、第一储液槽、蒸汽清洗干燥槽和第二储液槽内；

步骤2：将用清洗剂清洗掉镭雕后残渣的手机塑胶机壳放入篮具中；

步骤3：将装有手机塑胶机壳的篮具放入减压蒸馏清洗槽内，然后在室温到90℃温度以下进行蒸汽清洗1-5分钟；

步骤4：将装有手机塑胶机壳的篮具放入超声波清洗槽内，然后在常温进行超声漂洗1-5分钟；

步骤5：将装有手机塑胶机壳的篮具放入蒸汽清洗干燥槽内，然后在室温到90℃温度以下进行蒸汽清洗并干燥1-5分钟；

步骤6：从蒸汽清洗干燥槽取出装有手机塑胶机壳的篮具。

2.根据权利要求1所述的的一种手机塑胶机壳镭雕后残渣的清洗方法，其特征在于，减压蒸馏清洗槽与冷凝储液槽之间安装有抽液泵，把冷凝储液槽内的液体抽到减压蒸馏清洗槽中。

3.根据权利要求1所述的的一种手机塑胶机壳镭雕后残渣的清洗方法，其特征在于，减压蒸馏清洗槽与真空蒸馏回收槽之间安装有抽液泵，把减压蒸馏清洗槽内的液体抽到真空蒸馏回收槽中。

4.根据权利要求1所述的的一种手机塑胶机壳镭雕后残渣的清洗方法，其特征在于，超声波清洗槽和第一储液槽之间安装有抽液泵。

5.根据权利要求1所述的的一种手机塑胶机壳镭雕后残渣的清洗方法，其特征在于，蒸汽清洗干燥槽和第二储液槽之间安装有抽液泵。

6.根据权利要求1所述的的一种手机塑胶机壳镭雕后残渣的清洗方法，其特征在于，步骤1中的溶剂是醇醚类溶剂；

上述步骤2所述的清洗剂，其由以下按照质量百分数计算的组分组成：渗透剂10-30％、缓蚀剂10-30％、表面活性剂1-10％、有机助剂1-20％、螯合剂1-10％、余量为水；

所述渗透剂为醇醚类有机溶剂或多元醇类有机溶剂；

所述渗透剂为下列物质中的一种或两种及以上的混合物：二乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚，丙二醇甲醚、甘油、乙二醇、异丙醇、二甘醇和乙醇；

所述缓蚀剂为下列物质中的一种或两种及以上的混合物：苯并三氮唑、巯基苯丙异噻唑、油酸咪唑啉、柠檬酸、酒石酸、草酸、硼酸、烷基琥珀酸酐、己二酸、正辛酸、新癸酸、癸二酸和十二二酸、葡萄糖酸；

所述表面活性剂为下列物质中的一种或两种及以上的混合物：脂肪醇聚氧乙烯醚、十二烷基磺酸钠、脂肪酸甘油酯和烷基糖苷；

所述有机助剂为下列物质中的一种或两种及以上的混合物：丙二醇、异丙醇、苯氧乙醇、N-甲基吡咯烷酮；

所述螯合剂为下列物质中的一种或两种及以上的混合物：二乙烯三胺五乙酸、聚丙烯酸、氨基三亚甲基膦酸、羟基亚乙基二膦酸、己二胺四亚甲基膦酸和聚马来酸酐。

7.根据权利要求6所述的的一种手机塑胶机壳镭雕后残渣的清洗方法，其特征在于，步骤1中的溶剂是二乙二醇丁醚或者二丙二醇甲醚。