[发明专利]包括多个处理级的图形处理流水线及其操作方法与介质有效

专利信息
申请号: 201810331207.5 申请日: 2018-04-13
公开(公告)号: CN108734624B 公开(公告)日: 2023-09-22
发明(设计)人: F·赫格伦德 申请(专利权)人: Arm有限公司
主分类号: G06T1/20 分类号: G06T1/20
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 吕俊刚;杨薇
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 包括 处理 图形 流水线 及其 操作方法 介质
【权利要求书】:

1.一种操作包括多个处理级的图形处理流水线的方法,所述多个处理级包括图元设立级和光栅化级,该方法包括以下步骤:

所述图元设立级接收表示限定要通过所述图形处理流水线渲染的图元的顶点的信息,并从中确定表示所述图元的边缘或多个边缘的位置的边缘信息;

所述图元设立级使用所确定的边缘信息,来针对所述图元确定修改的边缘信息,该修改的边缘信息表示针对所述图元的所述边缘或所述多个边缘的修改位置;以及

所述光栅化级使用针对所述图元的所述修改的边缘信息,通过以下步骤来针对正被生成的图形渲染输出的至少一个区域,确定所述图元是否覆盖所述渲染输出的所述区域:

利用针对所述图元的所述修改的边缘信息,来确定所述图元是否覆盖来自表示正被生成的渲染输出的采样点网格的一组一个或更多个采样点中的至少一个采样点,所述至少一个采样点表示所述渲染输出的所述区域;

其中:

所述图元设立级使用所确定的边缘信息,来针对所述图元确定修改的边缘信息,所述修改的边缘信息表示针对所述图元的所述边缘或所述多个边缘的修改位置的步骤包括:所述图元设立级使用所确定的边缘信息,来针对所述图元确定修改的边缘信息,所述修改的边缘信息表示针对所述图元的所述边缘的修改位置,所述修改位置表示所述图元的扩展形式;并且

所述光栅化级使用针对所述图元的所述修改的边缘信息,来针对正被生成的图形渲染输出的至少一个区域,确定所述图元是否覆盖所述渲染输出的所述区域的步骤包括:所述光栅化级使用针对所述图元的所述修改的边缘信息,来执行针对所述图元的外覆盖保守光栅化测试和针对所述图元的内覆盖保守光栅化测试,所述修改的边缘信息表示针对所述图元的扩展形式的边缘。

2.根据权利要求1所述的方法,所述方法还包括以下步骤:

所述图元设立级确定如下的修改的边缘信息,该修改的边缘信息表示所述图元的如下的边缘,这些边缘已经相对于如根据由所述图元设立级从针对所述图元的所述顶点确定的原始边缘信息所限定的边缘的位置,按一偏移量向外移动。

3.根据权利要求2所述的方法,其中:

图元边缘所偏移的所述偏移量基于要在光栅化处理期间使用的所述采样点网格的大小和/或特性。

4.根据权利要求1、2或3所述的方法,其中:

所述边缘信息包括表示所述图元的每个边缘的线性方程;以及

确定针对所述图元的修改的边缘信息包括以下步骤:通过根据所述线性方程检测每个边缘的长轴,并且使每个边缘沿该边缘的短轴方向相对于所述图元的中心向外移动,来调节所述边缘信息。

5.根据权利要求1、2或3所述的方法,所述方法还包括以下步骤:

当使用针对所述图元的所述修改的边缘信息,来执行用于保守光栅化的内覆盖测试时,所述修改的边缘信息表示修改的图元边缘,该修改的图元边缘表示图元的扩展形式,

通过以下步骤确定所述图元是否覆盖表示所述渲染输出的所述区域的所述一组一个或更多个采样点中的至少一个采样点:

利用修改的一组一个或更多个采样点来测试所述修改的图元边缘,其中,所述修改的一组一个或更多个采样点包括具有如下的位置的偏移采样点,该位置相比于所述偏移采样点在未修改的一组一个或更多个采样点中具有的位置已经被修改,所述未修改的一组一个或更多个采样点将另外用于外覆盖测试的目的。

6.根据权利要求5所述的方法,其中:

表示所述区域的所述修改的一组一个或更多个采样点针对所述未修改的一组一个或更多个采样点中的每个采样点包括两个偏移采样点,一个偏移采样点表示未修改采样点在一个轴向方向上偏移达特定偏移量,而另一偏移采样点表示所述未修改采样点在另一方向上偏移达所述特定偏移量。

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