[发明专利]光源系统和投影系统有效

专利信息
申请号: 201810326536.0 申请日: 2018-04-12
公开(公告)号: CN110376833B 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 侯海雄;唐晓峰;李屹 申请(专利权)人: 深圳光峰科技股份有限公司
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 姚鹏;曹正建
地址: 518000 广东省深圳市南山区粤*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 光源 系统 投影
【权利要求书】:

1.一种光源系统,所述光源系统包括:

第一激光模块,用于发出具有第一波长范围的激光;

区域分光片,所述区域分光片具有中心区域和外围区域,所述中心区域能够反射所述激光并且所述外围区域能够透射所述激光;

色轮,被所述中心区域反射的所述激光的至少一部分入射至所述色轮,所述色轮将入射的所述激光反射为具有朗伯分布的光;

聚焦透镜,所述聚焦透镜设置于所述第一激光模块与所述区域分光片之间,将所述激光聚焦至所述中心区域;

收集透镜组,所述收集透镜组设置于所述区域分光片与所述色轮之间,将所述激光的所述至少一部分聚焦至所述色轮并且将从所述色轮入射的具有朗伯分布的所述光平行化;和

方棒,所述方棒具有入光面和出光面,平行化的所述光被所述聚焦透镜会聚至所述方棒的所述入光面,

其中,所述光源系统还包括光扩散元件,所述光扩散元件位于所述收集透镜组与所述方棒之间,所述光扩散元件用于抑制或淡化因激光被所述收集透镜组反射而产生的色斑;所述光扩散元件是所述区域分光片的所述中心区域,所述中心区域经过加工而具有散射特性。

2.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,所述加工是刻蚀加工。

3.根据权利要求1所述的光源系统,其特征在于,还包括第二激光模块,用于发出具有与所述第一波长范围不同的第二波长范围的激光。

4.根据权利要求3所述的光源系统,其特征在于,所述区域分光片的所述中心区域能够透射具有所述第二波长范围的所述激光,并且所述外围区域能够反射具有所述第二波长范围的所述激光以用作所述色轮的激发光。

5.根据权利要求4所述的光源系统,其特征在于,所述色轮能够将入射的所述激发光转换为具有第三波长范围的受激光。

6.根据权利要求5所述的光源系统,其特征在于,透过所述区域分光片的所述中心区域的具有所述第二波长范围的所述激光和从所述色轮出射的所述受激光分别被所述聚焦透镜会聚至所述方棒的所述入光面。

7.一种投影系统,所述投影系统包括如权利要求1至6中任一项所述的光源系统。

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