[发明专利]电子装置及其壳体和壳体的制造方法

权利要求书

1.一种电子装置的壳体，其特征在于，所述壳体包括塑料基层、设置于所述塑料基层上的色漆层、设置于所述色漆层上的第一结合层、设置于所述第一结合层上的光学膜层、设置于所述光学膜层上抗蚀层以及设置于所述抗蚀层上的面漆层，所述光学膜层包括设置于所述第一结合层上的第二结合层、设置于所述第二结合层上的折射膜层以及设置于所述折射膜层上的硬度强化层，所述第二结合层、所述折射膜层以及所述硬度强化层至少包括一层通过溅射或者蒸镀工艺形成的金属氧化物层，所述第一结合层、所述第二结合层、所述抗蚀层、所述面漆层以及所述硬度强化层均为可透光材质，所述第一结合层为第一UV涂料层，所述面漆层为第二UV涂料层，形成第一UV涂料层时的流平时间小于形成第二UV涂料层时的流平时间的一半。

2.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述第二结合层为铌的氧化物层。

3.根据权利要求1或2所述的壳体，其特征在于，所述抗蚀层为PU涂料层。

4.根据权利要求1或2所述的壳体，其特征在于，所述硬度强化层为三氧化二铝层或者单晶二氧化锆层。

5.根据权利要求1或2所述的壳体，其特征在于，所述色漆层的厚度为8-12微米，所述结合层的厚度为20-25微米，所述抗蚀层的厚度为5-10微米，所述面漆层的厚度为20-25微米。

6.根据权利要求1或2所述的壳体，其特征在于，所述结合层的厚度大于或者等于所述抗蚀层厚度的两倍。

7.根据权利要求1或2所述的壳体，其特征在于，所述折射膜层包括层叠设置的第一钛氧化物层、硅氧化物层以及第二钛氧化物层。

8.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述面漆层中掺杂有二氧化钛颗粒，所述二氧化钛颗粒的平均粒径小于100纳米。

9.一种电子装置的壳体的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

在塑料基层上形成色漆层；

在色漆层上形成第一结合层；

在所述第一结合层上形成光学膜层；

在所述光学膜层上形成抗蚀层；

在所述抗蚀层上形成面漆层；

其中，所述光学膜层包括设置于所述第一结合层上的第二结合层、设置于所述第二结合层上的折射膜层以及设置于所述折射膜层上的硬度强化层，所述第二结合层、所述折射膜层以及所述硬度强化层至少包括一层通过溅射或者蒸镀工艺形成的金属氧化物层，所述第一结合层、所述第二结合层、所述抗蚀层、所述面漆层以及所述硬度强化层均为可透光材质。

10.一种电子装置，其特征在于，所述电子装置包括装置主体和如权利要求1-8任意一项所述的壳体。