[发明专利]一种红外光学窗口及其制备方法在审
| 申请号： | 201810324897.1 | 申请日： | 2018-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN108459361A | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 李旭光;赵培 | 申请（专利权）人： | 无锡奥夫特光学技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/14 | 分类号： | G02B1/14 |
| 代理公司： | 总装工程兵科研一所专利服务中心 32002 | 代理人： | 杨立秋 |
| 地址： | 214000 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 红外光学窗口 光学膜 镀制 制备 耐受性 红外成像技术 抗磨损能力 恶劣环境 红外成像 保护膜 金属膜 透过率 | ||
1.一种红外光学窗口，用于非制冷红外焦平面探测器，其特征在于，所述红外光学窗口包括基片，所述基片的顶部和底部均镀制有光学膜，顶部光学膜的四周镀制金属膜，所述底部光学膜上镀有一层保护膜。
2.如权利要求1所述的红外光学窗口，其特征在于，所述基片的材质为锗、硅、硒化锌或石英玻璃。
3.如权利要求1所述的红外光学窗口，其特征在于，所述光学膜的材质为Ge、ZnS、CaF、YbF3、SiO中的一种或几种。
4.如权利要求1所述的红外光学窗口，其特征在于，所述金属膜为Ti、Ni、Pt、Cr、Au中的一种或几种。
5.如权利要求1所述的红外光学窗口，其特征在于，所述保护膜为类金刚石薄膜，厚度为10~500nm。
6.如权利要求5所述的红外光学窗口，其特征在于，所述类金刚石薄膜的形状及大小根据探测器芯片大小及形状可调。
7.一种红外光学窗口的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、使用超声波清洗机对基片进行清洗，并用甩干机甩干；
步骤2、通过光学镀膜机在基片的底部镀制光学膜；
步骤3、采用PECVD方法在底部光学膜的表面镀制一层保护膜；
步骤4、采用硬掩膜方法在所述基片顶部做出镀膜区域，镀制光学膜；
步骤5、采用光刻制作出镀制金属膜的环形区域，镀制金属膜。
8.如权利要求7所述的红外光学窗口的制备方法，其特征在于，所述基片为双面抛光基片。
9.如权利要求7所述的红外光学窗口的制备方法，其特征在于，所述基片底部的光学膜共1~100层，厚度为0.1~50μm。
10.如权利要求7所述的红外光学窗口的制备方法，其特征在于，所述基片顶部的光学膜共1~100层，厚度为0.1~50μm。
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