[发明专利]干刻蚀设备腔体气体侦测系统

权利要求书

1.一种干刻蚀设备腔体气体侦测系统，其特征在于，包括：腔体(10)、设于所述腔体(10)内的侦测传感器(20)以及设于所述腔体(10)外并与侦测传感器(20)电性连接的监控设备(30)；所述腔体(10)内具有干刻蚀气体(11)；

所述侦测传感器(20)用于侦测腔体(10)内干刻蚀气体(11)的浓度，并反馈给监控设备(30)；

所述监控设备(30)用于显示腔体(10)内干刻蚀气体(11)的浓度。

2.如权利要求1所述的干刻蚀设备腔体气体侦测系统，其特征在于，所述腔体(10)的一端设有至少一个抽气孔(12)；所述抽气孔(12)用于持续向腔体(10)外抽出位于腔体(10)内的干刻蚀气体(11)。

3.如权利要求1所述的干刻蚀设备腔体气体侦测系统，其特征在于，所述腔体(10)的另一端设有至少一个进气孔(13)；所述进气孔(13)用于持续向腔体(10)内通入稀释气体(14)。

4.如权利要求1所述的干刻蚀设备腔体气体侦测系统，其特征在于，所述腔体(10)内还设有一包覆侦测传感器(20)的保护罩(21)。

5.如权利要求4所述的干刻蚀设备腔体气体侦测系统，其特征在于，所述保护罩(21)的下方开设有侦测孔(22)。

6.如权利要求4所述的干刻蚀设备腔体气体侦测系统，其特征在于，所述保护罩(21)的材料为蓝宝石玻璃。

7.如权利要求1所述的干刻蚀设备腔体气体侦测系统，其特征在于，所述干刻蚀气体(11)为氯气。

8.如权利要求3所述的干刻蚀设备腔体气体侦测系统，其特征在于，所述稀释气体(14)为氮气。

9.如权利要求5所述的干刻蚀设备腔体气体侦测系统，其特征在于，所述腔体(10)内设有一显示面板的下电极(15)，所述干刻蚀气体(11)用于对下电极(15)进行干蚀刻。

10.如权利要求9所述的干刻蚀设备腔体气体侦测系统，其特征在于，所述保护罩(21)下方的侦测孔(22)与下电极(15)的上表面在同一水平面。