[发明专利]用于致动光学系统中的至少一个光学元件的装置有效
申请号: | 201810319528.3 | 申请日: | 2013-11-07 |
公开(公告)号: | CN108519672B | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
发明(设计)人: | M.豪夫;A.沃格勒 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G02B26/08 | 分类号: | G02B26/08;G03F7/20;G02B7/182;G02B7/198 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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搜索关键词: | 用于 光学系统 中的 至少 一个 光学 元件 装置 | ||
本发明涉及一种用于致动光学系统、尤其是投射曝光设备的光学系统中的光学元件的装置,其中,所述光学元件(101)通过具有接合件刚度的至少一个接合件(102)能够关于至少一个倾斜轴线倾斜,所述装置包含用于对所述光学元件(101)施加力的至少一个致动器(104),其中,所述致动器(104)具有致动器刚度,其至少部分地补偿所述接合件刚度。
本申请是申请号为201380058502.3、发明名称为“用于致动光学系统中的至少一个光学元件的装置”的发明专利申请的分案申请。
发明内容
本发明涉及一种用于致动光学系统中至少一个光学元件的装置。
根据本发明的装置可有利地尤其用于具有彼此独立可调节的多个光学元件的光学系统中,例如用于致动微光刻投射曝光设备中的分面反射镜。然而,本发明不限于此,而是通常还可用于其它光学系统(例如,用于材料处理的光学系统)中,尤其是其中多个光学元件在各情况中均可调地安装在有限结构空间中的系统。
背景技术
微光刻技术用于制造微结构部件,例如,集成电路或LCD。微光刻工艺在所谓的投射曝光设备中进行,所述设备具有照明装置和投射镜头。在该情况中,通过投射镜头将通过照明装置照明的掩模(=掩模母版)的像投射到涂覆有光敏层(光刻胶)且布置在投射镜头的像平面中的基板(例如,硅晶片)上,以将掩模结构转移至结构的光敏涂层。
在设计用于EUV(极紫外辐射,即波长小于30nm,尤其小于15nm的电磁辐射)的投射曝光设备中,由于缺少可用的透光材料,反射镜用作成像过程的光学部件。另外,尤其在设计用于以EUV工作的微光刻投射曝光设备的照明装置中,例如从DE 10 2008 009 600 A1已知使用场分面反射镜和光瞳分面反射镜形式的分面反射镜作为束引导部件。这种分面反射镜由多个单独反射镜构造,所述多个单独反射镜设计为通过弯曲部分而可倾斜,用于调节或者用于实现特定照明角分布的目的。在该情况中,还需要实现关于两个(尤其是相互垂直的)倾斜轴线的倾斜。
这里出现的一个问题是,关于例如致动分面反射镜的单独反射镜(或关于致动其中所述元件相对紧密包装的布置中的其它光学元件),首先,仅狭窄定界的结构空间可用,其次,例如在投射曝光设备工作期间,通常必须将致动器的热负载最小化,这导致需要挑战致动器设计。这格外适用,因为通常使用的弯曲部分具有不可避免的支承刚度,其在致动光学元件的单独反射镜期间必须得到克服。
发明内容
本发明的目的在于提供致动光学系统中至少一个光学元件的装置,其使得可在相对小的所需结构空间和减少产生的致动器热负载的情况下能够致动。
该目的通过根据独立权利要求1的特征的装置来实现。
根据本发明的致动光学系统中至少一个光学元件的装置,其中光学元件可通过具有接合件刚度的至少一个点关于至少一个倾斜轴线倾斜,所述装置包含:
-将力施加在光学元件上的至少一个致动器;
-其中,致动器具有部分补偿接合件刚度的致动器刚度。
本发明尤其基于以下构思:构造致动器,使得关于产生要施加在光学元件上的致动器力,从一开始,倾斜所需的接合件刚度包含在致动器的设计中,使得任意位置的致动器以考虑了接合件刚度的方式精确地提供适合的致动器力。
尤其是,本发明包括以下构思,由于至少部分(甚至可能全部)补偿效应因此实现,考虑通过致动器的适合力-距离特征导致的“正”接合件刚度(其对应于“负刚度”)。在该情况中,在此以及在下文中,具有“负刚度”的系统被理解为表示这样的系统:在从预定中心开始位置偏转时,系统具有随增大的偏转增大的力,并且被引导远离(开始)位置。因而,具有“负刚度”的系统被理解为表示这样的系统:随着从预定中心开始位置偏转增大,增大的力作用于所述中心位置的方向上。
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