[发明专利]彩膜基板及其制造方法在审
| 申请号： | 201810318327.1 | 申请日： | 2018-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN108519700A | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 林旭林;陈黎暄 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 色阻 彩膜层 遮光层 彩膜基板 共通电极层 红色色阻 蓝色色阻 绿色色阻 遮光块 基板 液晶显示面板 外部环境光 有效地 反射 制造 交汇 | ||
1.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括：
基板；
彩膜层，所述彩膜层设置在所述基板上，所述彩膜层包括第一色阻块、第二色阻块和第三色阻块，所述第一色阻块、所述第二色阻块和所述第三色阻块为红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块中互不相同的色阻块；
遮光层，所述遮光层设置在所述彩膜层上，所述遮光层包括遮光块；
共通电极层，所述共通电极层设置在所述遮光层上；
其中，所述红色色阻块、所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块中的任意两者之间的交汇处所处的位置与所述遮光块所处的位置对应。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，设置于所述基板和所述遮光层之间的所述彩膜层用于降低所述遮光层在所述彩膜基板中所覆盖的区域对外部环境光的反射强度。
3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜层的表面为凹凸不平的表面；
所述彩膜基板还包括：
平坦化层，所述平坦化层设置在所述彩膜层与所述遮光层之间，所述平坦化层用于覆盖所述彩膜层凹凸不平的表面，以使所述遮光层设置在平坦的表面上。
4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述共通电极层还设置于所述平坦化层上。
5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜层的表面为平坦的表面，所述共通电极层还设置于所述彩膜层上。
6.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
A、将彩膜层设置在基板上，其中，所述彩膜层包括第一色阻块、第二色阻块和第三色阻块，所述第一色阻块、所述第二色阻块和所述第三色阻块为红色色阻块、绿色色阻块和蓝色色阻块中互不相同的色阻块；
B、将遮光层设置在所述彩膜层上，其中，所述遮光层包括遮光块；
C、将共通电极层设置在所述遮光层上；
其中，所述红色色阻块、所述绿色色阻块和所述蓝色色阻块中的任意两者之间的交汇处所处的位置与所述遮光块所处的位置对应。
7.根据权利要求6所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，设置于所述基板和所述遮光层之间的所述彩膜层用于降低所述遮光层在所述彩膜基板中所覆盖的区域对外部环境光的反射强度。
8.根据权利要求6所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述彩膜层的表面为凹凸不平的表面；
在所述步骤A之后，以及在所述步骤B之前，所述方法还包括以下步骤：
D、在所述彩膜层与所述遮光层之间设置平坦化层，所述平坦化层用于覆盖所述彩膜层凹凸不平的表面，以使所述遮光层设置在平坦的表面上；
所述步骤B为：
B、将所述遮光层设置在位于所述彩膜层上的所述平坦化层上。
9.根据权利要求8所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述共通电极层还设置于所述平坦化层上。
10.根据权利要求6所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述彩膜层的表面为平坦的表面，所述共通电极层还设置于所述彩膜层上。
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