[发明专利]用于气体处理的系统和方法

权利要求书

1.用于吸附吸入麻醉剂的吸附剂的用途，所述吸附剂包括孔隙直径大到足以允许麻醉剂的分子从中穿过并吸附在吸附剂的内腔中的亲有机物的孔隙晶格结构；

所述吸附剂包括：

第一吸附剂，具有亲有机物的孔隙晶格结构，其平均孔隙开口在5-10埃间，包含小于10重量％的Al₂O₃，比表面积在400m²/g与1500m²/g之间；

第二吸附剂，具有亲有机物的孔隙晶格结构，其平均孔隙开口在15-30埃间，包含小于10重量％的Al₂O₃，比表面积在400m²/g与1500m²/g之间；

所述第一吸附剂与所述第二吸附剂分离；

所述吸附剂为基于SiO₂的亲有机物材料，其具有90重量％或更大的SiO₂含量。

2.根据权利要求1所述的用途，其中所述第一吸附剂为硅石吸附剂，其具有6埃的平均孔隙尺寸、400m²/g的比表面积，包含小于1.0重量％的Al₂O₃；所述第二吸附剂为非定晶硅吸附剂，其具有20埃的平均孔隙尺寸、750m²/g的比表面积，包含小于1.0重量％的Al₂O₃。

3.一种用于从气体流中回收至少一种卤代烃的方法，该方法包括下述步骤：

将气体流暴露于至少两种吸附剂，其中第一吸附剂具有亲有机物的孔隙晶格结构，其平均孔隙开口在5-10埃间，包含小于10重量％的Al₂O₃，比表面积在400m²/g与1500m²/g之间；第二吸附剂具有亲有机物的孔隙晶格结构，其平均孔隙开口在15-30埃间，包含小于10重量％的Al₂O₃，比表面积在400m²/g与1500m²/g之间；所述第一吸附剂与所述第二吸附剂分离；并且，所述吸附剂为基于SiO₂的亲有机物材料，其具有90重量％或更大的SiO₂含量；

从所述气体流中移除包含吸附的至少一种卤代烃的至少两种吸附剂；以及

通过在一定条件下将所述至少两种吸附剂暴露于净化气体而在净化气体中再生至少两种吸附剂，所述条件使得至少一种吸附的卤代烃从至少两种吸附剂解吸。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述第一吸附剂为硅石吸附剂，其具有6埃的平均孔隙尺寸、400m²/g的比表面积，包含小于1.0重量％的Al₂O₃；所述第二吸附剂为非定晶硅吸附剂，其具有20埃的平均孔隙尺寸、750m²/g的比表面积，包含小于1.0重量％的Al₂O₃。

5.根据权利要求3所述的方法，其中所述至少一种卤代烃为至少两种不同麻醉剂的混合物，所述至少两种吸附剂吸附所述至少两种不同麻醉剂，所述净化气体将所述至少两种不同麻醉剂从所述至少两种吸附剂中的至少一种吸附剂解吸到该净化气体中，并且其中该方法进一步包括步骤：

将解吸到净化气体中的所述两种不同麻醉剂冷凝以提供包括所述两种不同麻醉剂的混合物的冷凝物；以及

纯化该冷凝物以隔离出单独的纯化的麻醉剂。

6.根据权利要求5所述的方法，其中在冷凝物中的至少一种卤代烃通过分馏纯化。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述分馏在局部真空下或在增大的压力下执行。

8.根据权利要求6所述的方法，进一步包括步骤：在通过分馏纯化之前或之后，用水清洗冷凝物。