[发明专利]蓝膜、制作方法及电子产品

权利要求书

1.一种蓝膜，其特征在于，包括依次设置的基材、第一氧化硅膜层、第一硅膜层或第一锗膜层、第二氧化硅膜层、第二硅膜层或第二锗膜层、以及第三氧化硅膜层；

所述第一氧化硅膜层的厚度为3-8nm；

所述第一硅膜层、所述第一锗膜层、所述第二硅膜层或所述第二锗膜层的厚度独立地为23-24nm；

所述第二氧化硅膜层的厚度为72-73nm；

所述第三氧化硅膜层的厚度为2-3nm。

2.根据权利要求1所述的蓝膜，其特征在于，还包括黑色油墨层，所述黑色油墨层与所述第三氧化硅膜层相贴合。

3.根据权利要求2所述的蓝膜，其特征在于，所述黑色油墨层的厚度为1-20μm。

4.权利要求1-3任一项所述的蓝膜的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：依次将氧化硅、硅或锗、氧化硅、硅或锗、以及氧化硅镀膜到基材表面形成第一氧化硅膜层、第一硅膜层或第一锗膜层、第二氧化硅膜层、第二硅膜层或第二锗膜层、以及第三氧化硅膜层，即得所述蓝膜。

5.根据权利要求4所述的蓝膜的制作方法，其特征在于，在完成第三氧化硅膜层之后还包括印刷黑色油墨层的步骤。

6.包括权利要求1-3任一项所述的蓝膜的电子产品。