[发明专利]双光子双光束超分辨光存储材料读写装置和读写方法有效
申请号: | 201810311116.5 | 申请日: | 2018-04-09 |
公开(公告)号: | CN108877844B | 公开(公告)日: | 2020-04-03 |
发明(设计)人: | 刘铁诚;阮昊 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G11B7/1365 | 分类号: | G11B7/1365;G11B20/10;G11B27/26 |
代理公司: | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 张宁展 |
地址: | 201800 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光子 光束 分辨 存储 材料 读写 装置 方法 | ||
1.一种双光子双光束超分辨光存储材料读写装置,其特征在于包括光路和计算机(36),所述的光路由记录光路、读出光路和荧光收集光路组成:
所述的记录光路包括波长可调脉冲激光器(1),该脉冲激光器(1)输出的激光经第一光纤耦合器(2)、第一翻转镜架(3)输出脉冲光,该脉冲光经第二翻转镜架(7)、第一声光调制器(8)、第一扩束透镜组(9)后作为中心诱导光;第一连续激光器(10)输出的激光经第二光纤耦合器(11)、第二声光调制器(12)、第二扩束透镜组(13)、第一涡旋相位片(14)、第一反射镜(15)、第一偏振分光棱镜(16)、第一1/4波片(17)后作为第一外围抑制光,该第一外围抑制光通过第一二向色镜(18)与所述的中心诱导光合束形成记录光束,该记录光束经第二二向色镜(27)、第三二向色镜(28)、1/2波片(29)、第三1/4波片(30)和物镜(31)后照射位于纳米位移台(32)上的光存储材料薄膜,该光存储材料薄膜为光致变色材料薄膜,以下简称为样品;记录光路中包括淬灭荧光光路,所述光路包括波长可调脉冲激光器(1),该脉冲激光器(1)输出的激光经所述的第一光纤耦合器(2)、翻转镜架(3)、第二反射镜(4)、倍频晶体(5)后输出倍频脉冲激光,该脉冲激光通过第三反射镜(6)、翻转镜架(7)、第一声光调制器(8)、第一扩束透镜组(9)后作为淬灭光,该淬灭激光经第一二向色镜(18)、第二二向色镜(27)、第三二向色镜(28)、1/2波片(29)、第三1/4波片(30)、物镜(31)后照射位于纳米位移台(32)上的光存储材料薄膜,将荧光信息淬灭;
所述的读出光路包括第一连续激光器(10),该激光器(10)输出的激光经所述的第二光纤耦合器(11)、第二声光调制器(12)、第二扩束透镜组(13),并通过计算机移除第一涡旋相位片(14),经过第一反射镜(15)、第一偏振分光棱镜(16)、第一1/4波片(17)、第一二向色镜(18)作为中心读出光;第二连续激光器(19)输出的激光经第三光纤耦合器(20)、第三声光调制器(21)、第三扩束透镜组(22)、第二涡旋相位片(23)、第四反射镜(24)、第二偏振分光棱镜(25)、第二1/4波片(26)后作为第二外围抑制光,该第二外围抑制光经第二二向色镜(27)与所述的中心读出光合束形成读出光束,该读出光束经第三二向色镜(28)、1/2波片(29)、第三1/4波片(30)和物镜(31)后照射位于纳米位移台(32)上的样品;
荧光收集光路为:纳米位移台(32)上的样品产生的荧光经所述的物镜(31)、第三1/4波片(30)、1/2波片(29)、第三二向色镜(28)、聚焦透镜(33)、光纤(34),输入单光子计数器(35);
所述的第一扩束透镜组(9)、第二扩束透镜组(13)、第三扩束透镜组(22)是由一对正负透镜组成对光束进行扩束;
所述的计算机(36)与所述的纳米位移台(32)、第一声光调制器(8)、第二声光调制器(12)、第三声光调制器(21)、第一涡旋相位片(14)、第二涡旋相位片(23)的控制端相连,所述的单光子计数器(35)的输出端与所述的计算机(36)的输入端相连。
2.根据权利要求1所述的双光子双光束超分辨光存储材料读写装置,其特征在于所述的光致变色材料薄膜,包括二芳基乙烯衍生物薄膜、俘精酸酐衍生物薄膜、偶氮类衍生物薄膜或螺吡喃材料薄膜。
3.利用权利要求1所述的双光子双光束超分辨光存储材料读写装置的读写方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
记录步骤:
1)对二芳基乙烯衍生物薄膜进行预处理,保证薄膜单体均为暗态,即为不可记录状态;
2)将所述的样品置于所述的纳米位移台(32)上,在计算机(36)的控制下,所述的纳米位移台(32)将所述的样品移位,使所述样品的第1记录点位于所述物镜(30)的焦点位置方向,并令i=1;
3)计算机判断:若第i记录点不需要记录,则进入步骤5),需要记录则进入下一步;
4)所述的计算机(36)控制开启第二声光调制器(12),使所述的第一连续激光器(10)输出的激光通过记录光路,将样品的记录平面的第i记录点区域涡旋光中心d/2范围外的暗态保持,同时开启第一声光调制器(8),使所述的脉冲激光器(1)输出的激光经第一光纤耦合器(2)输出脉冲光,该脉冲光经第一翻转镜架(3)、第二翻转镜架(7)、第一声光调制器(8)、第一扩束透镜组(9)后形成中心诱导光并经记录光路将第i记录点区域涡旋光中心d/2范围内的暗态转为亮态,而外围通过光抑制的方式始终保持暗态;待中心d/2范围内的暗态全部转为亮态后,所述的计算机(36)控制关闭第二声光调制器(12),同时手动打开第一翻转镜架(3)、第二翻转镜架(7),手动调整脉冲激光器(1)波长,经第一光纤耦合器(2)、翻转镜架(3)、第二反射镜(4)、倍频晶体(5)产生倍频脉冲激光,该倍频脉冲激光通过第三反射镜(6)、第二翻转镜架(7)、第一声光调制器(8)、第一扩束透镜组(9)后形成淬灭光,该淬灭光经过记录光路将第i记录点区域涡旋光中心d/2范围内的亮态转为淬灭态;
5)所述的计算机(36)关闭所述的第一声光调制器(8)、第二声光调制器(12),并控制纳米位移台(32)将所述样品移动至i=i+1记录点,并返回步骤3),当记录面的所有记录点全部扫描完,即进入下一步;
6)完成记录,结束;
读出步骤:
1)对二芳基乙烯衍生物薄膜进行预处理,将除淬灭态之外的暗态全部转为亮态,即可读出荧光态;
2)将样品安置在所述的纳米位移台(32)上,在所述的计算机(36)的控制下,所述的纳米位移台(32)将所述的样品移位,使所述样品的第1记录点位于所述物镜(31)的焦点位置方向,并令i=1;
3)所述的计算机(36)开启第三声光调制器(21),所述的第二连续激光器(19)输出的激光经第三光纤耦合器(20)、第三声光调制器(21)、第三扩束透镜组(22)、第二涡旋相位片(23)、第四反射镜(24)、第二偏振分光棱镜(25)、第二1/4波片(26)后作为第二外围抑制光,经读出光路对记录点i扫描;所述的计算机(36)开启第二声光调制器(12),所述的第一连续激光器(10)输出的激光经第二光纤耦合器(11)、第二声光调制器(12)、第二扩束透镜组(13),并通过计算机移除第一涡旋相位片(14),通过第一反射镜(15)、第一偏振分光棱镜(16)、第一1/4波片(17)、第一二向色镜(18)后作为中心读出光经读出光路同时照射所述的记录点i,记录点i产生的荧光经所述的荧光收集光路输入所述的单光子计数器(35)计数,若输出为亮点,则说明没有记录信息,若输出为暗点,则说明有记录信息,该单光子计数器(35)将信息输入所述的计算机(36),完成记录点i的读出;
4)在所述的计算机(36)的控制下,所述的纳米位移台(32)将所述的样品移位到下一个记录点,并令i=i+1,返回步骤3);当样品的所有的记录点全部读出后,进入下一步;
5)完成读出,所述的计算机(36)根据所述的单光子计数器(35)实时采集的信息经过图像处理后,产生记录信息图像。
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