[发明专利]同时去除电解抛光废水中总铁和总铜的处理工艺及系统

说明书

本发明属于水处理技术领域，提出了一种同时去除电解抛光废水中总铁和总铜的处理工艺和系统，本发明工艺，包括以下步骤：1)废水进入一体式沉淀池，并向一体式沉淀池中加入有机改性钠基蒙脱石除重金属药剂；2)经步骤1)处理后的出水进入树脂吸附塔，树脂吸附塔中放置单宁酸修饰的苯乙烯‑二乙烯苯聚合树脂。本发明系统解决了电解抛光废水的铁和铜的问题，工艺中使用的有机改性钠基蒙脱石除重金属药剂和单宁酸修饰的苯乙烯‑二乙烯苯聚合树脂均是根据电解抛光废水的特性制备而成，对废水中的铁和铜处理效果好。处理后废水pH在6～9之间，总铁在0.7～2.1mg/L之间，总铜在0.11～0.39mg/L之间，达到国家排放标准。

技术领域

本发明属于水处理技术领域，具体涉及一种同时去除电解抛光废水中总铁和总铜的处理工艺及系统。

背景技术

电镀行业的电解抛光废水含有大量的铁离子和铜离子，电解抛光废水中总铁和总铜不加处理直接排放将严重危害环境。

目前电解抛光废水主要采用的处理工艺主要为混凝沉淀技术，可是经过处理后的出水水质难以满足《电镀行业污染物排放标准》的要求。另外采用纳滤和反渗透法处理电解抛光废水，成本高，操作复杂，而且浓水中富集的铁和铜更难处理。

新颁布的《电镀行业污染物排放标准》(GB21900-2008)规定，电镀废水总铁低于3.0mg/L，总铜低于0.5mg/L。然而到目前为止，还没有同时去除电解抛光废水中总铁和总铜的处理方法和工艺，使得处理后水质指标满足《电镀行业污染物排放标准》(GB21900-2008)。

发明内容

针对现有技术存在的上述不足，本发明的目的就是根据冷电解抛光废水的水质情况，提供一种同时去除电解抛光废水中总铁和总铜的处理工艺及系统。

为实现以上目的，本发明一方面提供的一种同时去除电解抛光废水中总铁和总铜的处理工艺，采用如下技术方案：

一种同时去除电解抛光废水中总铁和总铜的处理工艺，包括以下步骤：

1)废水进入一体式沉淀池，并向一体式沉淀池中加入有机改性钠基蒙脱石除重金属药剂；

2)经步骤1)处理后的出水进入树脂吸附塔，树脂吸附塔中放置单宁酸修饰的苯乙烯-二乙烯苯聚合树脂，树脂吸附滤料按体积比占整个树脂吸附塔的65～85％。

优选的，所述步骤1)中有机改性钠基蒙脱石除重金属药剂的投加量为115～356mg/L。

优选的，所述步骤2)中，废水在吸附塔中的水力停留时间为45～55分钟。

所述有机改性钠基蒙脱石除重金属药剂根据电解抛光废水的水质特征制备而成，具有高效去除电解抛光废水中总铁和总铜的功能，其制备工艺包括以下步骤：

a)蒙脱石的筛选：选择蒙脱石，粒径为1.2～1.9mm，比表面积为13.9～17.2m²/g，阳离子交换容量为76～85mmol/100g；

b)蒙脱石的活化：将步骤a)筛选的蒙脱石颗粒浸泡在质量百分比浓度为9～16％的氯化钠溶液中3～4小时，取出晾干，然后将蒙脱石颗粒放置在质量百分比浓度为0.1～0.4％醋酸钠溶液中，形成悬浮混合溶液，将悬浮混合溶液放入高速分散机中搅拌分散，随后抽滤，用清水洗涤沉淀，自然干燥得到钠基蒙脱石；