[发明专利]具有微腔结构的石墨烯太阳能电池及其制备方法在审
| 申请号: | 201810308774.9 | 申请日: | 2018-04-09 |
| 公开(公告)号: | CN108321221A | 公开(公告)日: | 2018-07-24 |
| 发明(设计)人: | 况亚伟;顾涵;马玉龙;张静;倪志春;魏青竹;潘启勇;杨希峰;刘玉申;冯金福 | 申请(专利权)人: | 常熟理工学院;苏州腾晖光伏技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/028 | 分类号: | H01L31/028;H01L31/054;H01L31/0745;H01L31/18 |
| 代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 张俊范 |
| 地址: | 215500 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 二氧化硅层 石墨烯 石墨烯薄膜层 通孔 表面设置 氮化硅薄膜 太阳能电池 微腔结构 硅基太阳能电池 光子吸收效率 环状结构 金属薄膜 四周区域 转换效率 背电极 氮化硅 前电极 微腔 制备 电池 暴露 调控 生产 | ||
1.一种具有微腔结构的石墨烯太阳能电池,其特征在于,包括n型单晶硅,所述n型单晶硅的一面设置二氧化硅层,所述二氧化硅层是具有通孔的环状结构,所述二氧化硅层的表面和由二氧化硅层通孔暴露的n型单晶硅表面设置第一石墨烯薄膜层,在位于所述二氧化硅层通孔的区域的第一石墨烯薄膜层表面设置氮化硅薄膜,所述氮化硅薄膜表面设置第二石墨烯薄膜层,在位于所述二氧化硅层通孔的四周区域的第一石墨烯薄膜层表面设置前电极,所述n型单晶硅的另一面设置金属薄膜背电极。
2.根据权利要求1所述的具有微腔结构的石墨烯太阳能电池,其特征在于,所述n型单晶硅的掺杂浓度为1×1011~1×1015cm-3。
3.根据权利要求1所述的具有微腔结构的石墨烯太阳能电池,其特征在于,所述n型单晶硅的厚度为1~2000μm。
4.根据权利要求1所述的具有微腔结构的石墨烯太阳能电池,其特征在于,所述二氧化硅层的厚度为100~1000nm。
5.根据权利要求1所述的具有微腔结构的石墨烯太阳能电池,其特征在于,所述第一石墨烯薄膜层为若干层石墨烯薄膜叠置而成,第一石墨烯薄膜层厚度为0.5~10nm。
6.根据权利要求1所述的具有微腔结构的石墨烯太阳能电池,其特征在于,所述氮化硅薄膜为单层薄膜,氮化硅薄膜厚度为0.05~5μm,折射率为2.0~3.0。
7.根据权利要求1所述的具有微腔结构的石墨烯太阳能电池,其特征在于,所述第二石墨烯薄膜层为若干层石墨烯薄膜叠置而成,第二石墨烯薄膜层厚度为1~50nm。
8.一种制备权利要求1至7中任意一项所述的具有微腔结构的石墨烯太阳能电池的方法,其特征在于,包括步骤:在n型单晶硅的一面沉积二氧化硅层,并对二氧化硅层刻蚀形成通孔,在n型单晶硅的另一面沉积金属薄膜背电极;将制备的第一石墨烯薄膜层转移至二氧化硅层的表面和由二氧化硅层通孔暴露的n型单晶硅表面;在位于所述二氧化硅层通孔的区域的第一石墨烯薄膜层表面利用离子增强化学沉积技术制备氮化硅薄膜,并进行退火处理;将制备的第二石墨烯薄膜层转移至氮化硅薄膜表面;在位于所述二氧化硅层通孔的四周区域的第一石墨烯薄膜层表面采用丝网印刷制备前电极。
9.根据权利要求8所述的具有微腔结构的石墨烯太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述退火处理时置于氮气或氩气气氛内进行,退火温度为800~1400℃,保温时间40~400min。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





