[发明专利]透光大理石瓷砖的制备方法

权利要求书

1.一种透光大理石瓷砖的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供定位布料装置及透光料、半透光料及不透光料；所述定位布料装置包括料框、格栅片及若干模版，所述格栅片位于所述料框中，所述格栅片的边缘连接所述料框；所述格栅片至少具有第一区域、第二区域及第三区域；所述模版至少包括第一模版、第二模版及第三模版，所述第一模版具有对应于所述第一区域的第一投料孔，所述第二模版具有对应于所述第二区域的第二投料孔，所述第三模版具有对应于所述第三区域的第三投料孔；

将第一模版盖在所述料框上，所述第一投料孔对应所述格栅片的第一区域，通过所述第一投料孔将透光料布于所述第一区域，撤掉所述第一模版；

将第二模版盖在所述料框上，所述第二投料孔对应所述格栅片的第二区域，通过所述第二投料孔将半透光料布于所述第二区域，撤掉所述第二模版；

将第三模版盖在所述料框上，所述第三投料孔对应所述格栅片的第三区域，通过所述第三投料孔将不透光料布于所述第三区域，撤掉所述第三模版。

2.根据权利要求1所述的透光大理石瓷砖的制备方法，其特征在于：所述格栅片还包括第四区域，所述的透光大理石瓷砖的制备方法还包括如下步骤：将所述第一模版、第二模版或第三模版盖在所述料框上，所述第一投料孔、第二投料孔或第三投料孔对应所述格栅片的第四区域，通过所述第一投料孔、第二投料孔或第三投料孔将透光料、半透光料或不透光料布于所述第四区域。

3.根据权利要求2所述的透光大理石瓷砖的制备方法，其特征在于：所述第一模版、第二模版或第三模版设有对应所述第四区域的第四投料孔，通过所述第四投料孔将透光料、半透光料或不透光料布于所述第四区域。

4.根据权利要求1所述的透光大理石瓷砖的制备方法，其特征在于：所述格栅片还包括第四区域，所述定位布料装置还包括第四模版，所述第四模版上开设有对应所述第四区域的第五投料孔，所述的透光大理石瓷砖的制备方法还包括如下步骤：将所述第四模版盖在所述料框上，所述第五投料孔对应所述格栅片的第四区域，通过所述第五投料孔将透光料、半透光料或不透光料布于所述第四区域。

5.根据权利要求1所述的透光大理石瓷砖的制备方法，其特征在于：所述格栅片还包括第五区域，所述定位布料装置还包括第五模版，所述第五模版上开设有对应所述第五区域的第六投料孔，所述的透光大理石瓷砖的制备方法还包括如下步骤：将所述第五模版盖在所述料框上，所述第六投料孔对应所述格栅片的第五区域，通过所述第六投料孔将透光料、半透光料或不透光料布于所述第五区域。

6.根据权利要求1所述的透光大理石瓷砖的制备方法，其特征在于：所述格栅片还包括第六区域，所述定位布料装置还包括第六模版，所述第六模版上开设有对应所述第六区域的第七投料孔，所述的透光大理石瓷砖的制备方法还包括如下步骤：将所述第六模版盖在所述料框上，所述第七投料孔对应所述格栅片的第六区域，通过所述第七投料孔将透光料、半透光料或不透光料布于所述第六区域。

7.根据权利要求1所述的透光大理石瓷砖的制备方法，其特征在于：所述第一区域、第二区域及第三区域均对接；或，所述第一区域对接所述第二区域，所述第二区域对接所述第三区域；或，所述第一区域对接所述第三区域及所述第二区域；或，所述第三区域对接所述第一区域及所述第二区域；或，所述第二区域对接所述第一区域及所述第三区域。

8.根据权利要求1所述的透光大理石瓷砖的制备方法，其特征在于：所述的透光大理石瓷砖的制备方法还包括如下步骤：根据选用的石材扫描得到设计图，根据所述设计图设计定位布料装置中的格栅片及模版。

9.根据权利要求1所述的透光大理石瓷砖的制备方法，其特征在于：所述的透光大理石瓷砖的制备方法还包括如下步骤：将所述料框输送至压制工位，压制所述透光料、半透光料及不透光料，得到坯体。

10.根据权利要求1所述的透光大理石瓷砖的制备方法，其特征在于：所述模版具有色彩，所述第一模版、第二模版及第三模版的所述色彩分别与所述透光料、半透光料及不透光料的色彩相对应。