[发明专利]一种PVD涂装工艺

说明书

本发明涉及表面涂装技术领域，尤其是指一种PVD涂装工艺，包括如下工艺步骤：步骤1：在工件表面真空镀UV底漆；步骤2：完成镀UV底漆后利用PVD磁控离子溅射镀所需颜色；步骤3：在步骤2完成的镀层上使用油墨遮蔽所需的位置；步骤4：完成步骤3后再次进行PVD磁控离子溅射镀所需颜色；步骤5：完成步骤4后使用清洁剂把步骤3使用油墨遮蔽的地方清洗或擦拭干净；步骤6：完成步骤5后在工件表面喷涂高光PU或UV保护面漆，通过改进工艺步骤代替传统的3D镭雕工艺，减去实际生产中的繁杂工序，提高生产效率，也降低了生产成本，实用性强。

技术领域

本发明涉及表面涂装技术领域，尤其是指一种PVD涂装工艺。

背景技术

随着社会的不断进步，科技的不断发展，人们的生活也随之品质不断上升，在日常生活中，便携式电子产品是人们出门的必需品之一，如平板电脑、手机等已逐渐成为了生活中的刚需品，这类电子产品的外壳为了提高其美观度，均需要具有一定的玻璃的通透性、陶瓷的质感以及金属效果，另一方面为了符合便携和使用性能，其不能直接使用玻璃或陶瓷作为外壳，因此，其需要在非玻璃、陶瓷壳体上进行具备玻璃通透性、陶瓷质感的涂装，在大部分工件表面都需镭雕或印刷相应的商标、字样或图案，镭雕或印刷需额外增加设备和工序，增加复杂性提高生产成本。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种利用涂装油墨配合PVD磁控离子溅射镀代替传统的3D镭雕工艺的PVD涂装工艺。

为了解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：一种PVD涂装工艺，其特征在于：包括如下工艺步骤：

步骤1：在工件表面真空镀UV底漆；

步骤2：完成镀UV底漆后利用PVD磁控离子溅射镀所需颜色；

步骤3：在步骤2完成的镀层上使用油墨遮蔽所需的位置；

步骤4：完成步骤3后再次进行PVD磁控离子溅射镀所需颜色；

步骤5：完成步骤4后使用清洁剂把步骤3使用油墨遮蔽的地方清洗或擦拭干净；

步骤6：完成步骤5后在工件表面喷涂高光PU或UV保护面漆。

优选的，所述步骤1中真空镀的UV底漆的膜厚为0.8～1.7微米，然后需进行烘烤工艺，烘烤温度为70～86℃，烘烤时间为2～3min。

优选的，所述步骤2和步骤4中的PVD磁控离子溅射镀，需在磁控溅射设备中完成，该设备在工作前需进行腔体清理，清理时的设备参数如下，真空度为3×10^-4～4×10^-4Torr，靶材电流为4～5A，清理时间为100～200s。

优选的，所述步骤2和步骤4中的PVD磁控离子溅射镀，使用单一金属靶材，该金属靶材为钛靶、锡靶或铝靶。

优选的，所述步骤2和步骤4中的PVD磁控离子溅射镀，需在磁控溅射设备中完成，该设备工作时的参数如下，真空度为0.2×10^-5～0.7×10^-5Torr，偏压值为60～110V，靶材的电流为3～7A。

优选的，所述步骤2和步骤4中的PVD磁控离子溅射镀，使工件表面沉积一层镀膜，沉积时间为1～2H，待沉积完成后需等磁控溅射设备腔体冷却至46～60℃后打开腔体取出产品。

优选的，所述步骤3中的油墨为丝移印油墨，使用喷涂或印刷遮蔽需要标识的字体或图案的位置。

优选的，所述步骤5中的清洁剂是油墨清洁剂或碱性浸泡用清洁剂。