[发明专利]一种工业生产反应罐内腔清洗装置

权利要求书

1.一种工业生产反应罐内腔清洗装置，包括架体，所述架体包括框架、底板、顶板和侧板，底板、顶板和侧板均通过螺钉固定在框架上，其特征在于，所述底板上表面设置有能够对反应罐进行定位的定位机构，所述定位机构包括工作面板一、驱动电机一、夹爪盘、夹爪一、夹爪二和夹爪三，所述夹爪盘固定在固定面板一的上表面，夹爪盘上周向等间距开设有条形孔一、条形孔二和条形孔三，夹爪一、夹爪二和夹爪三分别滑动设置在条形孔一、条形孔二和条形孔三上，夹爪盘下表面转动设置有主动轮一、从动轮一、从动轮二和从动轮三，且从动轮一、从动轮二和从动轮三均与主动轮一相啮合，夹爪一、夹爪二和夹爪三的下端分别从条形孔一、条形孔二和条形孔三穿出，且夹爪一、夹爪二和夹爪三的穿出端分别固定有齿条一、齿条二和齿条三，齿条一、齿条二和齿条三分别与从动轮一、从动轮二和从动轮三相啮合，驱动电机一竖直固定在工作面板一的下表面，驱动电机的一的输出轴穿出工作面板一，且驱动电机的一输出轴的穿出端与主动齿轮一相固定；所述顶板下表面设置有能够对反应罐进行清洗的清洗机构，所述清洗机构包括驱动电机二、旋转轴和若干毛刷，所述侧板上设置有能够对反应罐进行抓夹的抓夹机构，所述抓夹机构包括安装架、驱动电机三、夹爪四和夹爪五。

2.根据权利要求1所述的工业生产反应罐内腔清洗装置，其特征在于，所述安板架设置在架体侧板一侧面，安装架包括安装板一和安装板二，安装板一背向架体侧板一的一侧面上水平开设有凹槽一，安装板二的一端固定在安装板一的凹槽一内，且安装板二朝凹槽一内壁的一侧壁上水平开设有凹槽二，安装板二背向安装板一的一侧面上水平开设有凸型滑槽，夹爪四和夹爪五的一端分别固定有滑块一和滑块二，滑块一和滑块二均滑动设置在凸型滑槽内，且滑块一和滑块二的一端从凸型滑槽穿出且位于凹槽一和凹槽二所形成的空间内。

3.根据权利要求2所述的工业生产反应罐内腔清洗装置，其特征在于，所述滑块一和滑块二的穿出端分别水平固定有齿条四和齿条五，齿条四和齿条五相对，驱动电机三竖直固定在安装架三的下表面，驱动电机三的输出轴穿设设在安装架上，且驱动电机三的输出轴端部固定有主动齿轮二，主动齿轮二位于齿条四和齿条五之间，且齿条四和齿条五均与主动齿轮二相啮合。

4.根据权利要求2或3所述的工业生产反应罐内腔清洗装置，其特征在于，所述架体侧板一侧面固定有滑轨一，滑轨一内转动设置有丝杠一，丝杠一上螺纹连接有螺母一，滑轨一内滑动设置有移动块一，移动块一上开设有通孔一，通孔一的内壁上固定有轴承一，轴承一的内圈固定在螺母一上；所述架体侧板一侧面还水平固定有传动电机一，传动电机一的输出轴与丝杠一相连接，所述安装板一与移动块一相固定。

5.根据权利要求1所述的工业生产反应罐内腔清洗装置，其特征在于，所述驱动电机二竖直设置在架体顶板下表面，驱动电机二的输出轴竖直向下，旋转轴的固定在驱动电机二输出轴的下端，毛刷均固定在旋转轴的外圆弧壁上；所述旋转轴具有空腔，且旋转轴的圆弧壁上开设有若干与旋转轴空腔相通的气孔。

6.根据权利要求5所述的工业生产反应罐内腔清洗装置，其特征在于，所述架体顶板下表面固定有滑轨二，滑轨二内转动设置有丝杠二，丝杠二上螺纹连接有螺母二，滑轨二内滑动设置有移动块二，移动块二上开设有通孔二，通孔二的内壁上固定有轴承二，轴承二的内圈固定在螺母二上；所述架体顶板下表面还水平固定有传动电机二，传动电机二的输出轴与丝杠二相连接，所述驱动电机二与移动块二相固定。

7.根据权利要求1所述的工业生产反应罐内腔清洗装置，其特征在于，所述架体底底板上表面固定有工作面板二，工作面板二的上表面铰接有支撑杆一和支撑杆二，支撑杆一和支撑杆二的另一端均为自由端，且支撑杆一和支撑杆二的另一端通过连轴一相连接，上述工作面板一的下表面铰接有支撑杆三和支撑杆四，支撑杆三和支撑杆四的另一端均为自由端，且支撑杆三和支撑杆四的另一端通过连轴二相连接，支撑杆一和支撑杆三相互铰接，支撑杆二和支撑杆四相互铰接，且支撑杆一、支撑杆三的铰接点与支撑杆二、支撑杆四的铰接点之间通过连轴三相连接。

8.根据权利要求7所述的工业生产反应罐内腔清洗装置，其特征在于，所述工作面板二的上表面水平固定有气缸，气缸的活塞杆与连轴二相固定。