[发明专利]光路控制结构、像素结构及其制备方法、显示面板有效
申请号: | 201810294500.9 | 申请日: | 2018-03-30 |
公开(公告)号: | CN108538875B | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 赵德江;郝运 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/15 | 分类号: | H01L27/15;H01L33/50;H01L33/58;H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 董天宝;于宝庆 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 控制 结构 像素 及其 制备 方法 显示 面板 | ||
1.一种光路控制结构,其特征在于,包括像素界定层以及位于所述像素界定层所限定的区域内的多个光路控制单元,所述多个光路控制单元中的至少一个光路控制单元中设有散射单元;
其中,所述散射单元包括一个或多个散射透镜,所述散射透镜用于对入射光线进行散射,所述散射透镜为透明透镜;所述散射透镜包括位于出光侧的凹陷部,所述凹陷部的形状包括半圆型棱柱和/或半球形棱镜,所述散射透镜的凹陷面的最深距离在2~4微米之间。
2.一种像素结构,其特征在于,包括权利要求1所述的光路控制结构以及位于所述光路控制结构的出光侧的色彩调制层;
所述色彩调制层包括多个色彩调制单元,所述多个色彩调制单元中的至少一个色彩调制单元为量子点材料层,且所述量子点材料层与所述光路控制结构中的散射单元对应设置。
3.根据权利要求2所述的像素结构,其特征在于,所述像素结构还包括光源模块,所述光源模块包括多个发光单元,所述多个发光单元与所述光路控制结构中的多个光路控制单元一一对应设置。
4.根据权利要求3所述的像素结构,其特征在于,所述像素结构包括多个不同颜色的子像素;
所述光源模块所发的光的颜色与任一个子像素的颜色相同时,该与所述光源模块所发的光的颜色相同的子像素对应的所述色彩调制单元为透明单元,且与所述光源模块所发的光的颜色不同的子像素对应的所述色彩调制单元为量子点材料层;
所述光源模块所发的光的颜色与所有子像素的颜色均不同时,各个子像素对应的所述色彩调制单元均为量子点材料层。
5.根据权利要求3所述的像素结构,其特征在于,所述光源模块还包括位于所述发光单元靠近所述光路控制结构一侧的封装层。
6.根据权利要求2所述的像素结构,其特征在于,所述像素结构还包括位于所述色彩调制层背离所述光路控制结构一侧的平坦层。
7.一种显示面板,其特征在于,包括权利要求2-6任一项所述的像素结构。
8.一种像素结构的制备方法,其特征在于,包括:
在衬底基板上形成光路控制结构,所述光路控制结构包括像素界定层以及位于所述像素界定层所限定的区域内的多个光路控制单元,所述多个光路控制单元中的至少一个光路控制单元中设有散射单元,所述散射单元包括一个或多个散射透镜,所述散射透镜为透明透镜;
在所述光路控制结构的出光侧形成色彩调制层,所述色彩调制层包括多个色彩调制单元,所述多个色彩调制单元中的至少一个色彩调制单元为量子点材料层,所述量子点材料层与所述散射单元对应设置;所述散射透镜包括位于出光侧的凹陷部,所述凹陷部的形状包括半圆型棱柱和/或半球形棱镜,所述散射透镜的凹陷面的最深距离在2~4微米之间。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的