[发明专利]一种室温等离子体固化的聚硅氮烷涂层及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种室温等离子体固化的聚硅氮烷涂层，其特征在于，所述聚硅氮烷涂层的原料包括聚硅氮烷、溶剂、填料、过渡金属催化剂和添加剂；所述聚硅氮烷为无机聚硅氮烷、有机聚硅氮烷或改性的有机聚硅氮烷中的一种以上。

2.根据权利要求1所述的室温等离子体固化的聚硅氮烷涂层，其特征在于，所述聚硅氮烷、溶剂、填料、过渡金属催化剂和添加剂的质量比为(4～60)：(40～98)：(0.05～20)：(0.001～5)：(0～5)。

3.根据权利要求1所述的室温等离子体固化的聚硅氮烷涂层，其特征在于，所述无机聚硅氮烷为全氢聚硅氮烷，所述有机聚硅氮烷为Durazane 1500SC、Durazane1800或Durazane1500R中的一种以上，所述改性的有机聚硅氮烷为氟改性的聚硅氮弹烷和/或硼改性的聚硅氮烷。

4.根据权利要求1所述的室温等离子体固化的聚硅氮烷涂层，其特征在于，所述过渡金属催化剂为配位金属催化剂，所述金属为铂、镍、铜、钴、锌或铁。

5.根据权利要求4所述的室温等离子体固化的聚硅氮烷涂层，其特征在于，所述配位金属催化剂为卡氏铂金催化剂、乙酰丙酮镍、乙酰丙酮钴、三羰基铁或三吡啶基铁。

6.根据权利要求1所述的室温等离子体固化的聚硅氮烷涂层，其特征在于，所述溶剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯、正丁醚、甲苯、环己烷、甲基环己烷、二甲苯、四氢呋喃或二氧六环中的一种以上；所述填料为气相二氧化硅、纳米二氧化钛、纳米碳化硅、纳米氧化铝或纳米氧化锆中的一种以上；所述添加剂为流平助剂、消泡助剂、颜料或分散助剂中的一种以上。

7.根据权利要求6所述的室温等离子体固化的聚硅氮烷涂层，其特征在于，所述流平助剂为Silok-8358、BYK-333或L-330A中的一种以上，所述消泡助剂为SD998，EL-2609或BTK-065中的一种以上，所述颜料为酚菁蓝AP3165或AP3515；所述分散助剂为分散剂S-2107、HT-5040或A30中的一种以上。

8.根据权利要求1-7任一项所述的室温等离子体固化的聚硅氮烷涂层的制备方法，其特征在于，包括如下具体步骤：

S1.将聚硅氮烷、填料、溶剂和催化剂和添加剂混合成聚硅氮烷的混合液；

S2.聚合物基材的表面处理：聚合物基材用溶剂超声处理，再用去离子水清洗，干燥；

S3.涂布：将聚硅氮烷的混合液涂布在表面处理的聚合物基材上；

S4.固化：采用低温等离子体固化，固化的参数为：氧的压力为15～50Pa，氧的流量为700～1200cc/s，制得室温等离子体固化的聚硅氮烷涂层。

9.根据权利要求8所述的室温等离子体固化的聚硅氮烷涂层的制备方法，其特征在于，步骤S2中所述聚合物基材为聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚醚醚酮，步骤S3中所述涂布的方式为浸涂、旋涂、淋涂、喷涂或涂布。

10.权利要求1-7任一项所述的室温等离子体固化的聚硅氮烷涂层在航空航天、食品包装和电子领域中的应用。