[发明专利]检测及校正疑难的先进过程控制参数的方法及系统在审
| 申请号: | 201810282070.9 | 申请日: | 2012-08-30 |
| 公开(公告)号: | CN108469793A | 公开(公告)日: | 2018-08-31 |
| 发明(设计)人: | 崔东燮;戴维·天 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号: | G05B19/418 | 分类号: | G05B19/418;G05B13/04 |
| 代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 过程控制参数 先进过程控制 校正 反馈控制参数 反馈控制过程 集成电路制作 平移 比较参数 参数计算 反馈参数 反馈控制 统计参数 图表方式 制造过程 焦距 步进器 硅晶片 扫描仪 种检测 检测 光刻 精炼 正规化 松弛 放大 绘制 监视 施加 覆盖 | ||
1.一种系统,包括:
过程工具,其中所述过程工具通过多个控制参数可控;以及
控制器,其与所述过程工具通信耦合,且经配置以基于过程控制数据的当前或记录值识别多个控制参数中的至少一个疑难控制参数,所述多个控制参数与被用以控制所述过程工具的过程控制模型相关联,其中过程控制数据包括被用以调整所述过程工具的所述多个控制参数的所施加值、基于计量数据对所述多个控制参数的所述所施加值的参数校正、以及由所述过程控制模型产生的所述多个过程控制参数的经精炼值,其中所述过程控制模型包括基于所述参数校正计算所述多个控制参数的所述经精炼值,且其中所述控制器经配置以修改用于控制所使用的所述过程工具的所述过程控制模型以基于所述至少一个疑难控制参数调整所述过程工具。
2.根据权利要求1所述的系统,其中计算所述多个控制参数的所述经精炼值进一步包括:
确定与所述过程控制模型相关联的一组自回归加权参数,其中该组自回归加权参数对应于将被所述过程控制模型使用的经选择的一组过程迭代;
采用该组自回归加权参数对与所述经选择的一组过程迭代相对应的经选择的一组参数校正进行加权,以产生经加权的一组参数校正;以及
基于所述经加权的一组经模型化的参数校正计算所述多个控制参数的所述经精炼值。
3.根据权利要求2所述的系统,其中基于所述至少一个疑难过程控制参数修改所述过程控制模型包括:
修改该组自回归加权参数。
4.根据权利要求3所述的系统,其中修改该组自回归加权参数包括:
修改该组自回归加权参数的值中的至少一者或者在该组自回归加权参数中的自回归加权参数的数量。
5.根据权利要求3所述的系统,其中修改该组自回归加权参数包括:
确定一个或多个候选组自回归加权参数;
采用所述一个或多个候选组自回归加权参数对经选择的该组参数校正进行加权以产生经加权的一个或多个候选组参数校正;
基于所述经加权的一个或多个候选组参数校正,计算所述多个控制参数的一个或多个虚拟组经精炼值;
基于所述多个控制参数的所述一个或多个虚拟组经精炼值计算用于所述经加权的一个或多个候选组参数校正的一个或多个差指数值;以及
修改该组自回归加权参数以包括与最低的差指数值相关联的该候选组自回归加权参数。
6.根据权利要求1所述的系统,其中识别至少一个疑难控制参数包括:
将所述参数校正中的至少一者或者所述多个控制参数的所述经精炼值转换为共同单位;
产生与所述参数校正中的所述至少一者或者所述多个控制参数的所述经精炼值相关联的一个或多个统计参数;以及
基于所述一个或多个统计参数识别至少一个疑难控制参数。
7.根据权利要求6所述的系统,其中所述一个或多个统计参数包括所述参数校正的平均数或偏差的至少一者。
8.根据权利要求6所述的系统,其中所述一个或多个统计参数包括所述多个控制参数的所述经精炼值的偏差。
9.根据权利要求6所述的系统,进一步包括:
报告说明所述一个或多个统计参数的一个或多个图表。
10.根据权利要求9所述的系统,其中报告说明所述一个或多个统计参数的一个或多个图表包括在一组共同轴上显示所述一个或多个统计参数。
11.根据权利要求1所述的系统,其中识别至少一个疑难控制参数包括:
报告说明与所述过程控制数据的当前和记录值相关联的趋势的一个或多个图表。
12.根据权利要求11所述的系统,其中报告说明与所述过程控制数据的当前和记录值相关联的趋势的一个或多个图表包括:
在单个图表上报告基于所述计量数据的所述参数校正的趋势和所述多个控制参数的所述经精炼值的趋势。
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