[发明专利]称量装置及方法、基板液处理装置及方法和存储介质有效
| 申请号： | 201810267182.7 | 申请日： | 2018-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN108695201B | 公开（公告）日： | 2023-08-08 |
| 发明（设计）人： | 小西辉明;佐野和成;田中幸二 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;G01G17/04 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 称量 装置 方法 基板液 处理 存储 介质 | ||
提供一种称量装置及方法、基板液处理装置及方法和存储介质。本发明提供一种高精度地定量供给要用于基板液处理装置中的处理液的基板液处理装置(A1)，所述基板液处理装置(A1)具备：贮存管(61)，其贮存处理液；导入配管(62)，其向贮存管(61)导入处理液；送出配管(63)，其从贮存管(61)送出处理液；以及气体供给部(65)，其通过向贮存于贮存管(61)的处理液的表面吹扫气体来进行处理液的刮除。
技术领域
本发明涉及一种称量装置、基板液处理装置、称量方法、基板液处理方法和存储介质。
背景技术
在专利文献1中公开了一种用于测定在半导体的蚀刻处理中循环使用的磷酸溶液的硅浓度的硅浓度测定装置。在该装置中，通过测量包含磷酸溶液的液体的每单位量的微粒数来计算硅浓度。
专利文献1：日本特开2016-46265号公报
发明内容
在专利文献1所记载的硅浓度测定装置中，由泵加压输送的磷酸溶液被供给到用于测量液体的微粒数的测量器。在此，在将少量的磷酸溶液稀释后供给到测量器时，为了准确地测量硅的浓度，要求稀释率有高的再现精度。像这样，例如在基板液处理中有时要求精度良好地称量少量的处理液。
因此，在本公开中，其目的在于精度良好地称量少量的处理液。
本公开所涉及的基板液处理装置具备：贮存部，其贮存处理液；导入部，其向贮存部导入处理液；送出部，其从贮存部送出处理液；以及气体供给部，其通过向贮存于贮存部中的处理液的表面吹送气体来进行处理液的刮除。
根据本公开，能够精度良好地称量少量的处理液。
附图说明
图1是示意性地表示基板液处理系统的俯视图。
图2是基板液处理装置的示意图。
图3是硅浓度测定单元的示意图。
图4是表示控制部的功能性的结构的框图。
图5是称量处理中的硅浓度测定单元的示意图，图5的(a)表示贮存处理中的硅浓度测定单元，图5的(b)表示刮除处理中的硅浓度测定单元，图5的(c)表示送液处理中的硅浓度测定单元，图5的(d)表示送液控制后的硅浓度测定单元。
图6是浓度测定处理过程的流程图。
图7是贮存处理过程的流程图。
图8是刮除处理过程的流程图。
图9是送液处理过程的流程图。
图10是浓度分析处理过程的流程图。
图11是清洗处理过程的流程图。
图12是示意性地表示配管结构的变化的图。
图13是示意性地表示配管结构的变化的图。
图14是示意性地表示配管结构的变化的图。
图15是示意性地表示配管结构的变化的图。
图16是示意性地表示配管结构的变化的图。
图17是残液排出处理过程的流程图。
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