[发明专利]封装保护膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201810264953.7 | 申请日： | 2018-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN108395561A | 公开（公告）日： | 2018-08-14 |
| 发明（设计）人： | 华路;张洁君;李欣;宋宁 | 申请（专利权）人： | 广东轩朗实业有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04;C08J7/06;C09D127/16;C09D167/00;C09D175/04;C09D183/07;C09D183/04;C09D4/06;C09D4/02;C09D7/61;C09D7/63;C09D7/47;H01L51/52 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 舒丁 |
| 地址： | 517000 广东省河源市江东新*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 有机层 保护膜 封装 均匀涂布 涂布液 制备 柔性基材 无机层 放入 真空镀膜设备 柔性基材层 无机层表面 有机层表面 固化反应 阻隔性能 水汽 抽真空 烘烤 阻隔 | ||
1.一种封装保护膜，其特征在于，包括从内到外设置的第一有机层、柔性基材层、无机层、第二有机层及第三有机层。
2.根据权利要求1所述的封装保护膜，其特征在于，所述第一有机层为偏氟乙烯-六氟丙烯共聚物层；所述柔性基材层的材料为PET、PI、PP、PC、PE、PVC、TAC、TPU、PEN中的一种；所述无机层的材料为氮化物或者氧化物中的一种或者几种组合；所述第二有机层为改性有机聚硅氧烷树脂层；所述第三有机层为改性氟碳树脂层。
3.根据权利要求2所述的封装保护膜，其特征在于，所述氮化物为SixNy或者AlN；所述氧化物为SiOx或者Al2O3。
4.根据权利要求1所述的封装保护膜，其特征在于，所述第一有机层的厚度为2μm～8μm；所述柔性基材层的厚度为10μm～150μm；所述无机层的厚度为10nm～300nm；所述第二有机层的厚度为3μm～20μm；所述第三有机层的厚度为4μm～20μm。
5.一种封装保护膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供柔性基材及第一有机层涂布液，将所述第一有机层涂布液均匀涂布在所述柔性基材的一侧面，将具有第一有机层涂布液的柔性基材放入烘箱内，进行固化反应，形成具有第一有机层的膜一；
提供真空镀膜设备及无机层镀膜材料，将所述膜一放入所述真空镀膜设备内，抽真空，采用真空镀膜法将所述无机层镀膜材料镀在所述膜一背向所述第一有机层的一侧面，形成具有无机层的膜二；
提供第二有机层涂布液，将所述第二有机层涂布液均匀涂布在所述膜二的无机层表面，将具有第二有机层涂布液的膜二放入烘箱内烘烤，形成具有第二有机层的膜三；
提供第三有机层涂布液，将所述第三有机层涂布液均匀涂布在所述膜三的第二有机层表面，将具有第三有机层涂布液的膜三进行UV固化反应，形成封装保护膜。
6.根据权利要求5所述的封装保护膜的制备方法，其特征在于，所述固化反应的固化温度为120℃，固化时间为2min；所述烘烤的烘烤温度为100℃，烘烤时间为2min。
7.根据权利要求5所述的封装保护膜的制备方法，其特征在于，所述真空镀膜法为磁控溅射法、等离子体增强化学的气相沉积法、原子沉积法中的一种。
8.根据权利要求5所述的封装保护膜的制备方法，其特征在于，所述第一有机层涂布液包括如下重量份的组分：
偏氟乙烯-六氟丙烯共聚物 5～25份；
聚酯树脂 10～30份；
第一有机层溶剂 50～70份。
9.根据权利要求5所述的封装保护膜的制备方法，其特征在于，所述第二有机层涂布液包括如下重量份的组分：
10.根据权利要求5所述的封装保护膜的制备方法，其特征在于，所述第三有机层涂布液包括如下重量份的组分：
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