[发明专利]一种锑掺杂铜锌锡硫硒靶材及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201810261996.X | 申请日： | 2018-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN108468027B | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 庄大明;赵明;吴逸轩;孙汝军;魏要伟;任国铵;张冷;吕循岩;彭孝;王晨;胡岚 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 刘奇 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区双清路*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 铜锌锡硫硒 锑掺杂 靶材 制备 原料混合物 吸收层 溅射 薄膜 制备方法和应用 晶粒 掺杂混合 球磨混合 蒸发装置 烧结 溅射法 锑元素 应用 | ||
1.一种锑掺杂铜锌锡硫硒靶材的制备方法，包含如下步骤：
(1)将铜锌锡硫硒粉末和含Sb粉末混合后进行球磨，得到原料混合物；
(2)对原料混合物进行烧结，得到锑掺杂铜锌锡硫硒靶材。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述含Sb粉末为单质Sb粉末和/或含Sb化合物粉末；
所述含Sb化合物粉末为Sb2S3粉末、Sb2Se3粉末和Sb2O3粉末中的一种或几种。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述含Sb粉末中Sb元素占铜锌锡硫硒粉末和含Sb粉末的混合物中总原子数的(0at％,1at％]。
4.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述原料混合物的粒径≤50μm。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述烧结为常压烧结、热压烧结或热等静压烧结；
所述烧结的气氛为真空气氛或惰性气氛。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述常压烧结的压力为50～300Pa；
所述常压烧结的温度为400～900℃；
所述常压烧结的时间为1～40h。
7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述热压烧结的压力为30～100MPa；
所述热压烧结的温度为400～900℃；
所述热压烧结的时间为1～40h。
8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述热等静压烧结的压力为100～300MPa；
所述热等静压烧结的温度为400～900℃；
所述热等静压烧结的时间为1～40h。
9.权利要求1～8任意一项所述的制备方法得到的锑掺杂铜锌锡硫硒靶材。
10.权利要求9所述锑掺杂铜锌锡硫硒靶材在磁控溅射制备锑掺杂铜锌锡硫硒吸收层薄膜中的应用。
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