[发明专利]基于密度变换的笔形束剂量算法有效

专利信息
申请号: 201810260086.X 申请日: 2018-03-27
公开(公告)号: CN108465163B 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 中科超精(南京)科技有限公司
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10;G16H20/40
代理公司: 合肥市上嘉专利代理事务所(普通合伙) 34125 代理人: 王伟
地址: 210061 江苏省南京市江北新区新锦*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 基于 密度 变换 笔形 剂量 算法
【权利要求书】:

1.一种基于密度变换的笔形束剂量算法,其特征在于,将任意源皮距按几何尺寸放大到标准源皮距,密度反比例缩放,从而转变为标准源皮距下照射到其它密度模体的剂量分布,最后利用非均匀性修正方法从标准水模剂量分布得到任意射线源与任意密度模体的剂量分布;包括如下步骤:

设有一个已知射野大小A的笔形束,其射线源与模体距离为标准距离SSD,该笔形束照射在水模体上的剂量分布F(d,x,y)已知,其中d表示计算点的深度,x,y表示计算点距离笔形束中心轴的距离;且已知该笔形束射野大小下的最大组织空气比(Tissue MaximumRatio,TMR),记为TMR(A,d);

对于相同笔形束,射线源与模体距离h的情形下的剂量分布记为G(d,x,y);射线源与模体距离h的情形下的剂量分布等价于笔形束照射在标准距离处密度为的模体下的剂量分布,记该剂量分布为S(d,x,y),则

利用等效路径非均匀性修正方法从F(d,x,y)得到S(d,x,y),利用距离反比定理和相同标准源皮距两种密度情形的关系可以得到或者

利用Batho修正方法进行非均匀性处理方法可以从F(d,x,y)得到S(d,x,y),

利用上述G(d,x,y)和S(d,x,y)的关系得到任意射线源与模体距离h下的剂量分布G(d,x,y)。

2.根据权利要求1所述的基于密度变换的笔形束剂量算法,其特征在于,任何辐射场景下的剂量分布,若其几何尺寸和密度反比缩放,且射线强度随几何尺寸平方的反比缩放,则剂量分布不变。

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