[发明专利]一种有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法

权利要求书

1.一种有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法，其特征是：有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法包括以下工艺过程：

1)场地平整：采用机械设备进行有机污染场地平整；

2)止水帷幕施工：有机污染场地边界外5m-10m打设一圈水泥搅拌桩止水帷幕；

3)钻孔加药点位布置：止水帷幕范围内有机污染场地，布置钻孔加药点位；

4)定点钻孔：将三重管高压旋喷设备移至钻孔点位，启动钻机、空气压缩泵和高压水泵，下钻至对应点位的设计深度；

5)高压旋喷加药：钻杆下沉，停止钻进，启动喷药泵进行活化过硫酸钠溶液喷药，然后边喷药边旋转提升钻杆，将活化过硫酸钠溶液注入到污染区域；

6)养护：待所有钻孔加药点位施工完毕后，将场地进行封场养护25d-40d，完成有机污染场地的达标修复。

2.根据权利要求1所述的有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法，其特征是：高压旋喷加药时，启动喷药泵进行活化过硫酸钠溶液喷药20s-40s后，再边喷药边旋转提升钻杆。

3.根据权利要求1或2所述的有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法，其特征是：活化过硫酸钠溶液采用双氧水和过硫酸钠配制，置于药剂溶液储存罐中，三重管高压旋喷设备的喷药管连接至药剂溶液储存罐。

4.根据权利要求3所述的有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法，其特征是：活化过硫酸钠溶液中的过硫酸钠浓度为100g/L-300g/L、双氧水浓度为2g/L-40g/L。

5.根据权利要求1所述的有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法，其特征是：水泥搅拌桩止水帷幕的桩底位于污染土壤下方第一层隔水层的顶板以下1.5m-3m，止水帷幕的渗透系数≤10E-6cm/s。

6.根据权利要求1所述的有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法，其特征是：钻孔加药点位布置时，相邻钻孔加药点位的间距为2m-4m。

7.根据权利要求1所述的有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法，其特征是：高压旋喷加药时，喷药管的压力为15MPa-35MPa，喷药流量为100L/min-200L/min，钻杆旋转速度为10r/min-20r/min，钻杆提升速度为15cm/min-30cm/min。