[发明专利]一种确定FeRAM工作状态的方法及装置在审

专利信息
申请号: 201810255158.1 申请日: 2018-03-26
公开(公告)号: CN108305650A 公开(公告)日: 2018-07-20
发明(设计)人: 郭红霞;秦丽;张凤祁;欧阳晓平;罗尹虹;钟向丽;郭维新;李波;张阳;琚安安;魏佳男 申请(专利权)人: 湘潭大学
主分类号: G11C11/22 分类号: G11C11/22
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 宋静娜;郝传鑫
地址: 411100 湖*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 辐射剂量 匹配 第一数据 动态功耗 静态功耗 回读 写入 辐照 关系确定 空间辐射 辐射板 抗辐射 损伤 体内 辐射 试验 统计
【说明书】:

发明公开了一种确定FeRAM工作状态的方法及装置,属于空间辐射损伤效应及抗辐射加固领域。该方法包括:向FeRAM在设定电压下写入第一数据,将从所述FeRAM内回读的第二数据与所述第一数据进行匹配,将匹配合格的第一FeRAM在设定电压下写入第三数据,并将所述第一FeRAM通过辐射板放置在腔体内;在设定的工作方式下及设定的辐射剂量率下,对第一FeRAM辐照至设定的辐射剂量点,将完成辐射的所述第一FeRAM内回读第四数据,统计静态功耗电流、动态功耗电流与所述辐射剂量的关系,直至匹配不合格时结束试验,根据所述静态功耗电流,所述动态功耗电流和所述辐射剂量的关系确定所述FeRAM的工作状态。

技术领域

本发明属于空间辐射损伤效应及抗辐射加固领域,更具体的涉及一种确定FeRAM工作状态的方法及装置。

背景技术

近几年随着IT行业的不断发展,半导体集成电路发挥着重要的作用,存储技术也变得越来越重要,而FeRAM(Ferroelectric RAM,铁电存储器)具有DRAM(Dynamic RandomAccess Memory,动态随机存取存储器)的存储容量高,和SRAM(Static Random AccessMemory,静态随机存取存储器)的速度快等优点,同时具有驱动电压低、低功耗、擦写次数比较低,并且具有掉电数据不消失的优点,FeRAM成为存储器中比较有潜力的产品。铁电材料具有剩余极化的特性,FeRAM就是用这种极化反转的特性来存储信息的。铁电薄膜材料以及铁电电容,都具有很强的抗辐射能力,常规FeRAM的抗辐射能力及其抗辐射加固一直是各国不断研究的问题。同时当FeRAM在实际应用中要处于不同的环境和工作状态,对电离辐射照成的损伤也不相同,研究FeRAM在不同工作方式下的损伤结果,损伤机理,找到在辐射环境中FeRAM的工作方式,对研究FeRAM的抗辐射能力及其抗辐射加固具有重要的意义。

60Coγ辐照时γ射线与铁电材料相互作用,在铁电材料中会引入电子空穴对,电子空穴对一经产生,大部分电子会在p秒内漂向栅极,空穴漂向Si/SiO2界面处。空穴通过这些漂移、扩散以及复合等方式,电子空穴被俘获,形成正的氧化物陷阱电荷和界面态陷阱电荷。陷阱电荷形成的附加电场及复合中心,辐射损伤会有阈值电压漂移,跨导减小,时钟改变,沟道漏电流增加,料性能退化等表现形式。

综上所述,现有的确定FeRAM的研究多局限于材料方面,器件级研究较少,并且不同偏置下辐射效应的研究较少。

发明内容

本发明实施例提供一种确定FeRAM工作状态的方法及装置,用以解决现有技术中存在确定FeRAM的研究多局限于材料方面,器件级研究较少,不同偏置下辐射效应的研究较少,并且本发明在不改变版图生产工艺,封装尺寸及工作时序的条件下,通过设置不同的加电条件,对FeRAM的总剂量效应进行评估。

本发明实施例提供一种确定FeRAM工作状态的方法,包括:

向FeRAM在设定电压下写入第一数据,将从所述FeRAM内回读的第二数据与所述第一数据进行匹配,将匹配合格的第一FeRAM在设定电压下写入第三数据,并将所述第一FeRAM通过辐射板放置在屏蔽盒内;

在设定的工作方式下及设定的辐射剂量率下,按照设定的辐射剂量点依次对所述第一FeRAM进行辐射,将完成辐射的所述第一FeRAM内回读第四数据,统计匹配合格的第二FeRAM在设定的工作方式下的静态功耗电流、动态功耗电流与所述辐射剂量的关系,根据所述静态功耗电流,所述动态功耗电流和所述辐射剂量的关系确定所述FeRAM的工作状态。

优选地,所述设定的工作方式包括:

静态加电工作方式,动态工作方式和静态不加电工作方式;

所述辐射剂量点包括以下一种或者多种组合:

0krad,100krad,150krad,200krad,250krad,300krad,320krad。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湘潭大学,未经湘潭大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810255158.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top