[发明专利]一种透光率高且屏蔽紫外辐射的光扩散膜及其制备方法

权利要求书

1.一种透光率高且屏蔽紫外辐射的光扩散膜，其特征在于，包括基材层、设置在基材层上表面的光扩散层、设置在基材层下表面的防粘连层，所述光扩散层包括以下按照重量份的原料：丙烯酸酯树脂40-50份、乙酸正丁酯65-70份、聚甲基苯基硅氧烷1-2份、聚氨酯微珠18-22份、纳米氯化镉2-3份、二苯甲酮3-5份、二甲基乙酰胺0.7-1.1份；所述防粘连层包括以下按照重量份的原料：丙烯酸酯树脂55-60份、乙酸正丁酯70-75份、聚苯乙烯21-25份、聚氨酯微珠15-19份、二苯甲酮3-5份、烷基磺酸钠1-2份。

2.根据权利要求1所述的透光率高且屏蔽紫外辐射的光扩散膜，其特征在于，所述光扩散层包括以下按照重量份的原料：丙烯酸酯树脂43-47份、乙酸正丁酯66-69份、聚甲基苯基硅氧烷1.2-1.8份、聚氨酯微珠19-21份、纳米氯化镉2.4-2.8份、二苯甲酮3.5-4.5份、二甲基乙酰胺0.8-1.0份；所述防粘连层包括以下按照重量份的原料：丙烯酸酯树脂56-59份、乙酸正丁酯71-74份、聚苯乙烯22-24份、聚氨酯微珠16-18份、二苯甲酮3.5-4.5份、烷基磺酸钠1.2-1.7份。

3.根据权利要求2所述的透光率高且屏蔽紫外辐射的光扩散膜，其特征在于，所述光扩散层包括以下按照重量份的原料：丙烯酸酯树脂45份、乙酸正丁酯67份、聚甲基苯基硅氧烷1.6份、聚氨酯微珠20份、纳米氯化镉2.7份、二苯甲酮4份、二甲基乙酰胺0.9份；所述防粘连层包括以下按照重量份的原料：丙烯酸酯树脂58份、乙酸正丁酯73份、聚苯乙烯23份、聚氨酯微珠17份、二苯甲酮4份、烷基磺酸钠1.4份。

4.根据权利要求1所述的透光率高且屏蔽紫外辐射的光扩散膜，其特征在于，所述丙烯酸酯树脂为聚丙烯酸酯或环氧丙烯酸酯。

5.根据权利要求1所述的透光率高且屏蔽紫外辐射的光扩散膜，其特征在于，所述基材层的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯。

6.一种如权利要求1-5任一所述的透光率高且屏蔽紫外辐射的光扩散膜的制备方法，其特征在于，步骤如下：

1)准备基材层，备用；

2)按照光扩散层的配比，称取聚甲基苯基硅氧烷、纳米氯化镉、二苯甲酮和二甲基乙酰胺，合并后，在800-1000rpm下搅拌混合1-2h，然后送入超声处理器中，超声处理50-60min，出料，获得混合物A；

3)按照光扩散层的配比，称取丙烯酸酯树脂、乙酸正丁酯和聚氨酯微珠，投入至反应釜中，搅拌混合后，获得混合物B；

4)将混合物A投入至混合物B中，搅拌混合均匀后，获得混合物C；

5)将混合物C涂布在基材层上表面，在90-110℃下烘干处理45-55min，即可在基材层上表面形成光扩散层；

6)按照防粘连层的配比，称取丙烯酸酯树脂、乙酸正丁酯、聚苯乙烯和聚氨酯微珠，投入至反应釜中，搅拌混合后，获得混合物D；

7)按照防粘连层的配比，称取二苯甲酮和烷基磺酸钠，投入至混合物D中，搅拌混合后，获得混合物E；

8)将混合物E涂布在基材层下表面，在90-110℃下烘干处理45-55min，即可在基材层下表面形成防粘连层。

7.根据权利要求6所述的透光率高且屏蔽紫外辐射的光扩散膜的制备方法，其特征在于，步骤2)中，所述超声处理频率为30-50kHz。

8.根据权利要求6所述的透光率高且屏蔽紫外辐射的光扩散膜的制备方法，其特征在于，步骤2)中，所述超声处理的水浴温度为60℃。

9.一种光扩散膜在制备光扩散膜产品中的应用，其特征在于，所述光扩散膜为权利要求1-5任一项权利要求所述的光扩散膜。