[发明专利]三维量测器件

权利要求书

1.一种三维量测器件，其特征在于，包含：

光源；

分光器，所述分光器相对于水平方向倾斜第一角度；

反射器，所述反射器的表面对应参考面，所述参考面相对于垂直方向倾斜第二角度；

传感器，所述传感器的表面对应成像面，所述成像面相对于水平方向倾斜第三角度或与水平方向平行；

成像系统，所述成像系统位于所述分光器和所述传感器之间；

其中，所述三维量测器件具有干涉量测面，所述干涉量测面相对于水平方向倾斜第四角度，

其中，于水平方向所述分光器在所述光源及所述参考面之间，且于垂直方向所述分光器在所述成像面及所述干涉量测面之间，

其中，所述分光器上的任意点到所述参考面的在水平方向的距离等于所述分光器上的所述点到所述干涉量测面的在垂直方向的距离，

其中，当进行量测时，所述三维量测器件往待测物照射的光平行于垂直方向。

2.一种三维量测器件，其特征在于，包含：

光源；

分光器，所述分光器相对于水平方向倾斜第一角度；

反射器，所述反射器的表面对应参考面，所述参考面相对于垂直方向倾斜第二角度；

传感器，所述传感器的表面对应成像面，所述成像面相对于水平方向倾斜第三角度；

成像系统，所述成像系统位于所述分光器和所述传感器之间，

其中，所述三维量测器件具有干涉量测面，所述干涉量测面相对于水平方向倾斜第四角度，

其中，于水平方向所述分光器在所述光源及所述参考面之间，且于垂直方向所述分光器在所述成像面及所述干涉量测面之间，

其中，所述分光器上的任意点到所述参考面的在水平方向的距离等于所述分光器上的所述点到所述干涉量测面的在垂直方向的距离，

其中，当进行量测时，所述三维量测器件往待测物照射的光平行于垂直方向，

其中，所述第三角度与所述第四角度的设置使得所述成像面与物面符合沙姆定律(Scheimpflug Principle)且所述物面与所述干涉量测面一致。

3.一种三维量测器件，其特征在于，包含：

光源；

分光器，所述分光器相对于水平方向倾斜第一角度；

反射器，所述反射器的表面对应参考面，所述参考面相对于垂直方向倾斜第二角度；

传感器，所述传感器的表面对应成像面，所述成像面相对于水平方向倾斜第三角度；

成像系统，所述成像系统位于所述分光器和所述传感器之间，

其中，所述三维量测器件具有干涉量测面，所述干涉量测面相对于水平方向倾斜第四角度，

其中，于水平方向所述分光器在所述光源及所述参考面之间，且于垂直方向所述分光器在所述成像面及所述干涉量测面之间，

其中，所述分光器上的任意点到所述参考面的在水平方向的距离等于所述分光器上的所述点到所述干涉量测面的在垂直方向的距离，

其中，当进行量测时，所述三维量测器件往待测物照射的光平行于垂直方向，

其中，所述反射器的表面使得从所述光源发出且穿透所述分光器的光在照射所述反射器时能有部分反射光平行于从所述光源发出且穿透所述分光器的所述光。

4.如权利要求1至3中的任一项的三维量测器件，其特征在于，

当进行量测时，若所述待测物的表面的高度与所述干涉量测面一致，所述传感器测得最大干涉强度。

5.如权利要求1至3中的任一项的三维量测器件，其特征在于，

所述传感器是面传感器，所述面传感器包含像素数组，

其中，所述干涉量测面包含对应所述像素数组的对应列的多个量测线，所述量测线的高度是由所述像素数组的所述对应列的位置与所述第四角度来定义；

其中，当进行量测时，若所述待测物的表面的高度与所述量测线一致，所述传感器的所述像素数组中的对应的像素测得最大干涉强度。

6.如权利要求1至3中的任一项的三维量测器件，其特征在于，

所述反射器及所述传感器可转动，使得所述第二角度及所述第三角度可依所述第四角度的需求而调整。