[发明专利]形成多层结构的方法在审
申请号: | 201810244940.3 | 申请日: | 2018-03-23 |
公开(公告)号: | CN108666150A | 公开(公告)日: | 2018-10-16 |
发明(设计)人: | 王德岩 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 |
主分类号: | H01G11/32 | 分类号: | H01G11/32;H01G11/86 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈哲锋;胡嘉倩 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多层结构 石墨碳层 衬底 液体载体 石墨碳 可用 前体 | ||
1.一种组合物,其包括:液体载体;和一种或多种式(1)的MX/石墨碳前体,
其中,每个M选自由Ti、Hf以及Zr组成的群组;每个X独立地选自由N(R)、S、Se以及O组成的群组;每个R选自由H和-C1-10烃基组成的群组;每个R1为-C2-6亚烷基-X-基团;z为0至5;n为1至15;每个R2独立地选自由以下组成的群组:氢、-C1-20有机残基、-C(O)-C1-20烃基以及-(Y1)a-(L1)b-(Y2)c-(L2)d-C10-60多环芳族部分;每个Y1和Y2独立地选自由-C(O)-和-S(O)2-组成的群组;每个L1和L2独立地为C1-10烃基;a=0或1;b=0或1;c=0或1;并且d=0或1;条件是当c=0时d=0;其中,当Y1=-C(O)-时或者当a=c=0时,b和d中的至少一个等于1;并且其中,所述MX/石墨碳前体材料中至少10mol%的所述R2基团为-(Y1)a-(L1)b-(Y2)c-(L2)d-C10-60多环芳族部分。
2.如权利要求1所述的组合物,其中,M为Hf或Zr。
3.如权利要求1所述的组合物,其中,所述MX/石墨碳前体材料中25mol%至90mol%的所述R2基团为-(Y1)a-(L1)b-(Y2)c-(L2)d-C10-60多环芳族部分。
4.如权利要求1所述的组合物,其中,R2独立地选自由以下组成的群组:氢、-C1-10烷基、-C1-10亚烷基-C(O)-O-C1-6烷基、-C(O)-C1-10烷基、β-二酮残基、β-羟基酮残基、-C(O)-C6-10烷基芳基、取代的C(O)-C6-10芳基烷基、-C(O)-C6芳基、取代的-C(O)-C6芳基以及-(Y1)a-(L1)b-(Y2)c-(L2)d-C10-60多环芳族部分。
5.如权利要求1所述的组合物,其中,所述C10-60多环芳族部分选自由以下组成的群组:萘基、甲氧基萘基、乙氧基萘基、苯基-萘基、蒽基、芘基、并四苯基、苝基、晕苯基、并五苯基、三亚苯基、四苯基、苯并并四苯基以及联萘基,其中每一个均可以被可选地取代。
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