[发明专利]晶圆级发光二极管阵列在审
| 申请号: | 201810244405.8 | 申请日: | 2013-08-06 |
| 公开(公告)号: | CN108461515A | 公开(公告)日: | 2018-08-28 |
| 发明(设计)人: | 张锺敏;蔡钟炫;李俊燮;徐大雄;卢元英;姜珉佑;金贤儿 | 申请(专利权)人: | 首尔伟傲世有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/15 | 分类号: | H01L27/15;H01L33/38;H01L33/40;H01L33/42;H01L33/44;H01L33/46;H01L33/62 |
| 代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 尹淑梅;刘灿强 |
| 地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 发光二极管 发光二极管阵列 半导体层 电极电连接 晶圆级 电极 材料形成 生长基板 制造工艺 高电压 基板 源层 种晶 绝缘 运作 制造 | ||
1.一种发光二极管阵列,所述发光二极管阵列包括:
生长基板;
多个发光二极管,布置在基板上,所述多个发光二极管中的每个发光二极管具有第一半导体层、有源层和第二半导体层;
第一层间绝缘层,形成在所述多个发光二极管上并且暴露每个发光二极管的第一半导体层的一部分和第二半导体层的一部分;以及
多个上电极,布置在所述第一层间绝缘层上并且由相同的材料形成,所述多个上电极中的每个上电极电连接到相应的发光二极管的第一半导体层的一部分,
其中,至少一个上电极电连接到发光二极管中的相邻的一个发光二极管的第二半导体层的一部分,上电极中的另一上电极与发光二极管中的相邻的一个发光二极管的第二半导体层绝缘,
其中,上电极包括与第一半导体层欧姆接触的欧姆接触层和位于欧姆接触层上的反射导电层。
2.如权利要求1所述的发光二极管阵列,其中,欧姆接触层包括从Cr、Ni、Ti、Rh和Al组成的组中选择的任意一种金属材料。
3.如权利要求1所述的发光二极管阵列,其中,欧姆接触层包括ITO。
4.如权利要求1所述的发光二极管阵列,所述第一层间绝缘层使上电极与发光二极管的侧表面绝缘。
5.如权利要求4所述的发光二极管阵列,所述发光二极管阵列还包括分别布置在发光二极管的第二半导体层上的下电极,
其中,电连接到相邻的发光二极管的上电极通过第一层间绝缘层暴露的下电极连接到相应的发光二极管的第二半导体层。
6.如权利要求5所述的发光二极管阵列,其中,每个下电极包括反射层。
7.如权利要求5所述的发光二极管阵列,所述发光二极管阵列还包括覆盖上电极的第二层间绝缘层,
其中,第二层间绝缘层暴露一个下电极和与相邻的发光二极管的第二半导体层绝缘的上电极。
8.如权利要求7所述的发光二极管阵列,其中,发光二极管通过上电极串联连接,
其中,第二层间绝缘层暴露与在串联连接的发光二极管的两端处的发光二极管对应的下电极和上电极。
9.如权利要求7所述的发光二极管阵列,所述发光二极管阵列还包括位于第二层间绝缘层上的第一焊盘和第二焊盘,
其中,第一焊盘连接到通过第二层间绝缘层暴露的下电极,第二焊盘连接到通过第二层间绝缘层暴露的上电极。
10.如权利要求1所述的发光二极管阵列,其中,上电极占据发光二极管阵列的整个面积的至少30%且小于100%的面积。
11.如权利要求1所述的发光二极管阵列,其中,每个上电极为具有幅宽与宽度的比在1:3至3:1的范围内的板或片的形式。
12.如权利要求1所述的发光二极管阵列,其中,至少一个上电极具有比发光二极管中的相应的发光二极管的幅宽或宽度大的幅宽或宽度。
13.如权利要求4所述的发光二极管阵列,其中,第一层间绝缘层和上电极构成全方位反射器。
14.如权利要求4所述的发光二极管阵列,其中,第一层间绝缘层包括分布式布拉格反射器。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





