[发明专利]一种无刻蚀工艺的触控屏透明电极印刷法制备方法在审
| 申请号： | 201810241547.9 | 申请日： | 2018-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN108428495A | 公开（公告）日： | 2018-08-21 |
| 发明（设计）人： | 裴艳丽 | 申请（专利权）人： | 中山大学 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B13/00;G06F3/044 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 陈伟斌 |
| 地址： | 510275 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 印刷 触控屏 制备 氧化物透明电极 透明导电薄膜 刻蚀工艺 透明电极 表面亲水性 电极图形化 图案化过程 图形化表面 玻璃基板 环境友好 亲水表面 柔性基板 印刷工艺 有机涂层 低成本 亲疏水 溶液法 自组装 成膜 刻蚀 | ||
【权利要求书】：
1.一种无刻蚀工艺的触控屏透明电极印刷法制备方法，其特征在于，包括以下步骤：通过对玻璃衬底或者柔性衬底的亲疏水性改善来形成电极图形，配制氧化物透明电极溶液前驱体，前驱体的印刷法涂布，后处理工艺，最后形成电容式触控屏透明电极层。
2.根据权利要求1所述的一种无刻蚀工艺的触控屏透明电极印刷法制备方法，其特征在于：所述的衬底是玻璃衬底也可以是PI、PET等柔性衬底；亲疏水性改善可以通过UV照射或者plasma处理，也可以采用有机涂层进行亲疏水性改善。
3.根据权利要求1所述的一种无刻蚀工艺的触控屏透明电极印刷法制备方法，其特征在于：所述的衬底的亲疏性改善需要进行图形化处理，借鉴光刻工艺，将无透明电极部分通过屏蔽罩进行遮挡，避免UV或者等离子体的处理，形成疏水表面，而需要覆盖透明电极的部分通过UV照射或者等离子体处理形成亲水表面。
4.根据权利要求1所述的一种无刻蚀工艺的触控屏透明电极印刷法制备方法，其特征在于：所述的衬底的亲疏水改善需要进行图形化处理，采用有机涂层进行亲疏水改善时，先印刷疏水有机涂层，后通过等离子体处理，去除透明电极图案对应的有机涂层，形成亲水表面，最后以有机涂层作为腌膜，印刷透明电极，形成触控屏所需电极图案。
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