[发明专利]一种金属掩膜板及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201810224416.X 申请日: 2018-03-19
公开(公告)号: CN110284101A 公开(公告)日: 2019-09-27
发明(设计)人: 刘盛娟;范爽;兰兰 申请(专利权)人: 上海和辉光电有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C25D1/08
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 201506 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 掩膜板 分散区 褶皱 金属掩膜板 掩膜区域 有效显示区 夹持区域 夹持 焊接操作 夹持部位 局部受力 镭射工艺 受热 镂空 变形的 可分解 可分散 热应力 网状格 划伤 隆起 受力 掩膜 制造 玻璃
【说明书】:

发明涉及显示技术领域,公开了一种金属掩膜板及其制造方法,该金属掩膜板包括掩膜板本体,掩膜板本体具有用于进行掩膜的掩膜区域和位于掩膜区域两侧、用于被夹持的夹持区域,且掩膜区域具有至少一个有效显示区,有效显示区为镂空的网状格结构,夹持区域具有通过镭射工艺形成的力分散区。在夹持上述掩膜板本体进行操作时,力分散区可分散被夹持部位的集中受力,从而避免掩膜板本体局部受力过大产生褶皱;或者,在对上述掩膜板进行焊接操作时,由于掩膜板本体上形成有力分散区,力分散区可分解掩膜板本体局部受热产生的热应力,进一步避免掩膜板本体产生褶皱变形的现象,从而可降低掩膜板本体产生褶皱隆起划伤玻璃的风险。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种金属掩膜板及其制造方法。

背景技术

有源矩阵有机发光二极体(Active-matrix organic light emitting diode,简称AMOLED)显示屏幕因其色域广,对比度高,响应速度快,发光效率高,且无需背光源等优势,已经逐渐进入消费者的视野。

但是,现有技术制造出的掩膜板焊接强度不足、强度变弱易破坏,并且具有褶皱隆起划伤玻璃的风险。

发明内容

本发明提供了一种金属掩膜板及其制造方法,上述金属掩膜板具有力分散区,利于分散夹持或焊接状态下掩膜板本体的集中受力,可降低掩膜板本体产生褶皱隆起划伤玻璃的风险。

为达到上述目的,本发明提供以下技术方案:

一种金属掩膜板,包括掩膜板本体,所述掩膜板本体具有用于进行掩膜的掩膜区域和位于所述掩膜区域两侧、用于被夹持的夹持区域,且所述掩膜区域具有至少一个有效显示区,所述有效显示区为镂空的网格状结构,所述夹持区域具有通过镭射工艺形成的力分散区。

上述掩膜板本体中,掩膜板本体具有掩膜区域和夹持区域,而掩膜区域具有至少一个有效显示区,有效显示区为镂空的网格状结构,夹持区域具有用于分散掩膜板本体上集中受力的力分散区。需要说明的是,在夹持上述掩膜板本体进行操作时,力分散区可分散被夹持部位的集中受力,从而避免掩膜板本体局部受力过大产生褶皱;或者,在对上述掩膜板进行焊接操作时,由于掩膜板本体上形成有力分散区,力分散区可分解掩膜板本体局部受热产生的热应力,进一步避免掩膜板本体产生褶皱变形的现象。

因此,上述金属掩膜板具有力分散区,利于分散夹持或焊接状态下掩膜板本体的集中受力,可降低掩膜板本体产生褶皱隆起划伤玻璃的风险。

优选地,所述掩膜板本体具有位于所述有效显示区周侧的受力过渡区。

优选地,所述掩膜板本体具有与所述有效显示区一一对应的开口,每一对相互对应的开口和有效显示区之间:所述开口的尺寸大于所述有效显示区的尺寸,且所述有效显示区在所述掩膜板本体底面的投影位于所述开口的投影内。

本发明还提供一种包括上述技术方案中提供的任意一种金属掩膜板的制造方法,包括:

形成掩膜板本体,且在所述掩膜板本体的掩膜区域形成至少一个有效显示区,所述有效显示区为镂空的网格状结构,在所述掩膜板本体的夹持区域通过镭射工艺形成力分散区。

优选地,所述形成所述掩膜板的方法包括:

采用一次电铸工艺形成具有所述夹持区域和掩膜区域的初始板体;

采用二次电铸工艺在所述初始板体上形成加厚层,且所述加厚层具有与所述初始板体上所述有效显示区一一对应的开口;

采用镭射工艺在所述掩膜板本体的夹持区域形成力分散区。

优选地,所述加厚层具有的开口的尺寸大于与其对应的有效显示区的尺寸。

优选地,在所述二次电铸工艺之前,还包括:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海和辉光电有限公司,未经上海和辉光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810224416.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top