[发明专利]一种远场超衍射三维空心焦斑平面聚焦器件在审
| 申请号: | 201810220342.2 | 申请日: | 2018-03-16 |
| 公开(公告)号: | CN108363215A | 公开(公告)日: | 2018-08-03 |
| 发明(设计)人: | 陈刚;武志翔;温中泉;张智海;梁高峰 | 申请(专利权)人: | 重庆大学 |
| 主分类号: | G02B27/42 | 分类号: | G02B27/42 |
| 代理公司: | 重庆华科专利事务所 50123 | 代理人: | 康海燕 |
| 地址: | 400030 *** | 国省代码: | 重庆;50 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 介质圆环 衍射 三维 远场 聚焦器件 柱矢量光束 同心 基底 入射 超高密度数据存储 受激发射损耗 径向偏振 纳米光刻 入射光束 相位空间 优化设计 约束能力 焦距 偏振态 同心的 光镊 角向 显微 调控 应用 | ||
一种远场超衍射三维空心焦斑平面聚焦器件,包括基底和位于基底上的同心介质圆环阵列,同心介质圆环阵列是由N个同心的介质圆环结构单元构成。通过介质圆环单元的厚度实现对入射光束的相位调控;通过由介质圆环单元构成的同心介质圆环阵列的优化设计,实现远场超衍射三维空心焦斑平面聚焦器件所需要的相位空间分布,在对柱矢量光束入射条件下,在焦距附近产生远场超衍射三维空心焦斑。通过控制入射柱矢量光束的角向偏振态和径向偏振态的振幅比例,可以提高超衍射三维空心焦斑的光学约束能力。该器件具有厚度薄、质量轻和便于集成等特点,可应用于受激发射损耗显微、光镊、纳米光刻以及超高密度数据存储等领域。
技术领域
本发明属于微纳光学、光学聚焦以及衍射光学等领域,具体涉及一种二值相位的远场超衍射三维空心焦斑平面聚焦器件。
背景技术
由于衍射极限制约,传统光学系统分辨率无法突破理论极限0.5λ/NA(其中λ为波长,NA为光学系统数值孔径)。光学器件衍射极限严重制约了超高分辨光学系统的研制和发展。空心聚焦焦斑可用于光镊、超分辨显微、粒子操控等,受到人们越来越多的重视。在受激发射损耗显微技术(Stimulated Emission Depletion Microscopy,简记为STED)应用中,三维空心焦斑作为受激发射损耗显微的损耗光,可改善远场超分辨显微成像的分辨率。
(1)目前实现三维空心焦斑的技术手段,主要有采用拉盖尔-高斯径向偏振光,也称为double-ring-shaped径向偏振光(R-TEM11*mode beam)入射,通过高数值孔径的物镜聚焦获得了三维空心焦斑;采用圆偏振光和0~2π的涡旋相位板形成三维空心焦斑,该方法所使用的0~2π的涡旋相位板制备难度较大;利用0/π四象限相位板聚焦,结合径向偏振光在显微物镜的附近得到三维空心焦斑,然而,该方法需要精确的光路调节;相关文献有:
●Y.Kozawz and S.Sato,“Focusing property of a double-ring-shapedradially polarized beam,”Opt,Lett.Vol.31,pp820-822(2006).
●Hell,“Far-field optical nanoscopy,Single Molecule Spectroscopy inChemistry”,Physics and BiologyVol.96,pp365-398(2010).
●Yi Xue,Cuifang Kuang,Xiang Hao,Zhaotai Gu and Xu Liu,“A method forgenerating a three-dimensional dark spot using a radially polarized beam,”Journal of optics.Vol.13,pp,125704-125713(2011).
(2)根据现有的采用高数值孔径物镜产生三维空心焦斑的方法,其物镜体积大、不利于集成(如文献:Y.Kozawz and S.Sato,“Focusing property ofa double-ring-shapedradially polarized beam,”Opt,Lett.Vol.31,pp820-822(2006))。
(3)根据现有的基于4π聚焦系统的三维空心焦斑产生方法,需要依赖于两个高数值孔径的传统物镜,且需要对光路进行精细的对准,大大限制了其应用领域(如文献:BokorN,&Davidson N.Generation of a hollow hollow spherical spot by 4pi focusing ofa radially polarized Laguerre-Gaussian beam.Opt.Lett.Vol.31,149-151(2006))。
发明内容
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆大学,未经重庆大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810220342.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





