[发明专利]光学相位差构件、偏光变换元件、模板及光学相位差构件的制造方法在审

专利信息
申请号: 201810214369.0 申请日: 2018-03-15
公开(公告)号: CN108627900A 公开(公告)日: 2018-10-09
发明(设计)人: 须崎吾郎;田中大直;后藤正直;立花真林 申请(专利权)人: JXTG能源株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B27/28
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 王天尧
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学相位差 相位差 偏光变换元件 凸部 制造 凹凸结构 构件成本 交替配置 向上延伸 邻接 凹部
【权利要求书】:

1.一种光学相位差构件,其特征在于,其包括:

相位差部,其通过在一方向上延伸存在的多个凸部以及邻接的该凸部之间的凹部周期性地排列的凹凸结构来产生相位差;以及

非相位差部,其不产生相位差;并且

上述相位差部与上述非相位差部在同一面上交替配置。

2.根据权利要求1所述的光学相位差构件,其特征在于,

上述光学相位差构件具有如下结构,即,将分别具有交替配置的双折射部及非双折射部的第1相位差构件及第2相位差构件重叠的结构;

上述相位差部由上述第1相位差构件的上述双折射部以及上述第2相位差构件的上述双折射部构成;并且

上述非相位差部由上述第1相位差构件的上述非双折射部以及上述第2相位差构件的上述非双折射部构成。

3.根据权利要求1所述的光学相位差构件,其特征在于,

上述光学相位差构件具有如下结构,即,将具有交替配置的第1双折射部及第2双折射部的第1相位差构件、与具有第3双折射部的第2相位差构件重叠的结构;

上述相位差部由上述第1相位差构件的上述第1双折射部以及上述第2相位差构件的上述第3双折射部构成;并且

上述非相位差部由上述第1相位差构件的上述第2双折射部以及上述第2相位差构件的上述第3双折射部构成。

4.根据权利要求1所述的光学相位差构件,其特征在于,由上述相位差部产生的相位差为λ/4或λ/2。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学相位差构件,其特征在于,

上述光学相位差构件的上述相位差部具备:

透明基体,其具有与上述多个凸部的延伸方向垂直的面中的剖面为大致梯形形状的上述凹凸结构;

高折射率层,其形成于上述透明基体的上述凸部的上表面及侧面,且具有比上述凸部高的折射率;以及

中折射率层,其形成于上述凸部的上表面的上述高折射率层上,且由具有比上述高折射率层低的折射率的层构成;并且

在形成于相邻的上述凸部的对向的上述侧面上的上述高折射率层之间存在空气层。

6.根据权利要求5所述的光学相位差构件,其特征在于,上述中折射率层形成于上述凸部的上表面及侧面的上述高折射率层上。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的光学相位差构件,其特征在于,

上述光学相位差构件的上述相位差部具备:

透明基体,其具有与上述多个凸部的延伸方向垂直的面中的剖面为大致梯形形状的上述凹凸结构;

高折射率层,其形成于上述透明基体的上述凸部的上表面及侧面,且具有比上述凸部高的折射率;以及

积层体,其形成于上述凸部的上表面的上述高折射率层上,且由2n+1个层构成,n为正整数;并且

在形成于相邻的上述凸部的对向的上述侧面上的上述高折射率层之间存在空气层;

上述积层体具备:形成于上述高折射率层上的第1层、形成于第2k-1层上的第2k层、以及形成于上述第2k层上的第2k+1层,k为1~n的整数;

上述第1层的折射率低于上述高折射率层的折射率;

上述第2k+1层的折射率低于上述第2k层的折射率。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的光学相位差构件,其特征在于,其用于偏光变换元件。

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