[发明专利]一种防静电强疏水性复合膜层的制备方法

权利要求书

1.一种防静电强疏水性复合膜层的制备方法，其特征在于：复合膜层包括镀在基体表面的导电金属层以及镀在导电金属层表面的聚四氟乙烯层，其中，使基体表面金属化形成导电金属层，然后将基体表面的导电金属层粗糙化，使导电金属层的表面形成凹槽，再将聚四氟乙烯层镀在粗糙化后的导电金属层上；制备方法包括以下步骤：

步骤一、利用磁控溅射镀膜设备，以基体作为该设备的基片，以待镀的导电金属层的金属作为靶材进行磁控溅射镀膜，使基体表面镀上导电金属层；

步骤二、采用离子束刻蚀设备对导电金属层进行粗糙化，得到波峰与波谷垂直高度的深度为40~80nm的波纹状金属表面；离子束刻蚀设备的工艺参数为：屏极电压：500V，屏极电流：250mA，腔体Ar气流量10sccm；

步骤三、以C₄F₈气体为反应气体，采用反应离子刻蚀设备或电感耦合等离子刻蚀设备离解C₄F₈气体，在波纹状金属表面整体形成一层厚度小于1μm的聚四氟乙烯层薄膜；其中，反应离子刻蚀设备设置的参数：上电极功率50W，气压为8Pa，气体流量为50~80sccm；离子刻蚀设备设置的参数：电极功率50W，气压为5Pa，气体流量为50sccm。

2.如权利要求1所述的一种防静电强疏水性复合膜层的制备方法，其特征在于：基体表面金属化形成的导电金属层的厚度为100~200nm。

3.如权利要求1所述的一种防静电强疏水性复合膜层的制备方法，其特征在于：将基体表面的导电金属层粗糙化后的导电金属层的粗糙度为0.04~0.08μm。

4.如权利要求1所述的一种防静电强疏水性复合膜层的制备方法，其特征在于：聚四氟乙烯层的最大厚度不超过1μm。

5.如权利要求1所述的一种防静电强疏水性复合膜层的制备方法，其特征在于：凹槽的波峰与其波谷的间距为40~80nm。

6.如权利要求1所述的一种防静电强疏水性复合膜层的制备方法，其特征在于：步骤一中，磁控溅射镀膜设备的功率为200~300W；磁控溅射镀膜设备的腔室内部压力0.5~0.8Pa。

7.如权利要求1所述的一种防静电强疏水性复合膜层的制备方法，其特征在于：步骤三中，采用等离子体增强化学气相沉积设备进行聚四氟乙烯层沉积，等离子体增强化学气相沉积设备的功率为50~100W，气压为5~10Pa。