[发明专利]纳米胶体马达及其制备方法

权利要求书

1.一种纳米胶体马达，包括开口状球形铂壳，其特征在于：

所述开口状球形铂壳的壳直径≤500nm；

所述开口状球形铂壳的壳厚为5-30nm；

所述壳厚为5-30nm的开口状球形铂壳的壳外覆有银壳或金壳；

所述银壳或金壳的壳厚为5-20nm。

2.根据权利要求1所述的纳米胶体马达，其特征是银壳外覆有金壳，或金壳外覆有银壳。

3.一种权利要求1所述纳米胶体马达的制备方法，包括模板法，其特征在于完成步骤如下：

步骤1，先将球直径为50-500nm的胶体球置于基底上形成单层密排胶体晶体模板，再将单层密排胶体晶体模板置于70-90℃下至少8min，得到胶体球与基底固定连接的单层密排胶体晶体模板；

步骤2，先对胶体球与基底固定连接的单层密排胶体晶体模板进行等离子体刻蚀至少20min，得到胶体球与基底固定连接的单层非密排胶体晶体模板，再于单层非密排胶体晶体模板上依次蒸镀铂层、银层或金层，得到其上的胶体球的表面依次覆有铂壳、银壳或金壳的单层非密排胶体晶体模板；

步骤3，先使用物理的方法将单层非密排胶体晶体模板上的表面依次覆有铂壳、银壳或金壳的胶体球与基底分离，再将表面依次覆有铂壳、银壳或金壳的胶体球置于溶剂或煅烧中去除胶体球，制得纳米胶体马达。

4.根据权利要求3所述的纳米胶体马达的制备方法，其特征是胶体球为聚苯乙烯胶体球，或聚氯乙烯胶体球，或二氧化硅胶体球。

5.根据权利要求3所述的纳米胶体马达的制备方法，其特征是基底为导体基底，或半导体基底，或绝缘体基底。

6.根据权利要求3所述的纳米胶体马达的制备方法，其特征是蒸镀为磁控溅射，或电子束蒸发，或电沉积，或化学气相沉积。

7.根据权利要求3所述的纳米胶体马达的制备方法，其特征是物理方法分离为刀片刮下分离，或胶带粘下分离。

8.根据权利要求3所述的纳米胶体马达的制备方法，其特征是溶剂为二氯甲烷，或氢氟酸。