[发明专利]盥洗台下柜有效
| 申请号: | 201810191303.4 | 申请日: | 2018-03-08 |
| 公开(公告)号: | CN108567356B | 公开(公告)日: | 2020-10-23 |
| 发明(设计)人: | 金钟锡;杨仁亨;朴大润 | 申请(专利权)人: | LG电子株式会社 |
| 主分类号: | A47K1/02 | 分类号: | A47K1/02;E03C1/04;E03C1/182 |
| 代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 李英艳;崔炳哲 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 盥洗 台下 | ||
本发明涉及一种盥洗台下柜,所述盥洗台下柜包括:盥洗装置,具有洗脸盆、用于向所述洗脸盆供水的供水组件、以及用于排出供应到所述洗脸盆的水的排水组件;内箱体,配置于所述洗脸盆的下侧,在所述内箱体的内部形成有空间;模块,配置于所述内箱体的内部空间,以电方式运转;外箱体,覆盖所述内箱体的外侧;以及,框架,紧固连接所述内箱体和所述外箱体,支撑所述盥洗装置的荷重。
技术领域
本发明涉及一种利用盥洗台的下部空间的盥洗台下柜,更具体地,涉及一种在内部容纳有模块的盥洗台下柜。
背景技术
在浴室中,用于整理浴室用品的收纳空间相对不足,因此可以利用盥洗台的上侧或下侧的空间,以下柜或上柜的方式,形成收纳空间来进行管理。通常下柜将盥洗台的下侧的空间用作收纳空间,一般形成有收纳空间。
然而,下柜作为安装于潮湿环境的浴室的结构,容易暴露于水分中,因此存在内部的收纳空间容易被污染的问题。此外,在下柜的内部空间容纳有用于供水/排水的装置,因此还存在如下问题,即,由于从供水/排水装置流出的水,下柜的内部空间容易被污染。
另外,下柜配置于盥洗台的下侧,在支撑盥洗台的同时在下柜的内部形成空间的情况下,由于盥洗台的荷重或外部的影响,存在可能使内部的收纳空间容易变形的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种盥洗台下柜,能够安全地管理收纳空间。
本发明的另一个目的在于提供一种盥洗台下柜,在盥洗台下柜的内部形成收纳空间,并稳定地支撑盥洗台。
本发明不限于上述提及的问题,本领域技术人员可根据下面的记载,明确未提及的其他问题。
作为用于解决上述问题的手段,本发明的盥洗台下柜包括:盥洗装置,具有洗脸盆、用于向所述洗脸盆供水的供水组件、以及用于排出供应到所述洗脸盆的水的排水组件;内箱体,配置于所述洗脸盆的下侧,在所述内箱体的内部形成有空间;模块,配置于所述内箱体的内部空间,以电方式运转;外箱体,覆盖所述内箱体的外侧;以及,框架,紧固连接所述内箱体和所述外箱体,支撑所述盥洗装置的荷重。由此,能够支撑盥洗装置,并能够防止配置于内箱体的内部的模块被污染的情况。
在本发明的盥洗台下柜的内箱体的上部面,形成有格子型的加强突出部,还包括分区块,所述分区块将所述内箱体的所述模块容纳部划分为多个空间,所述分区块以插入形成于内箱体的内部的槽的方式,与所述内箱体相结合。由此,能够加强内箱体的内部的刚性。
本发明的盥洗台下柜的框架形成为,包围所述内箱体的周围的四边形环状,框架的截面形成为,在所述框架的内部形成空间的字形,所述框架分为配置于内箱体的前方的前方框架、配置于内箱体的后方的后方框架。由此,能够能够加强盥洗台下柜的整体的刚性。
本发明的盥洗台下柜的所述外箱体包括:侧面-外箱体,配置于所述内箱体的两侧面,后部面-外箱体,配置于所述内箱体的后部面,以及,底座-外箱体,配置于所述内箱体的下部面;在所述后部面-外箱体形成有外部连接部,所述供水组件和所述排水组件的一部分结构配置于所述外部连接部。在外部连接部的下部配置有支撑构件,所述支撑构件保持所述内箱体的后部面与所述后部面-外箱体之间的间隔。由此,能够加强盥洗台下柜的刚性。
本发明具有如下效果。
第一,本发明的盥洗台下柜包括内箱体和外箱体,在内箱体单独地形成用于容纳模块的空间,由此双重地阻断外部污染,而且在内箱体的内部也形成单独的模块容纳部,该模块容纳部将用于容纳模块的空间与用于配置盥洗装置的空间分开。由此具有如下优点:能够从外部污染中有效地管理容纳于内部的模块。
第二,本发明的盥洗台下柜包括内箱体、外箱体以及框架,在盥洗台下柜的内部形成容纳空间,并且保持整体结构的刚性。由此,具有能够稳定地管理容纳于内部的模块的优点。
附图说明
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