[发明专利]使用阻挡结构来进行改进的聚焦跟踪的系统和方法

权利要求书

1.一种成像系统，包括：

激光光源；

差分分离窗口，其将从所述光源发射的光分成多个平行光束；

样品容器，其包括布置在基底上处于接触关系中的第一层、第二层和第三层，这些层包括在所述样品容器的所述第一层处的第一反射表面、在所述第一层和所述第二层之间的第二反射表面、在所述第二层和所述第三层之间的第三反射表面以及在所述第三层和所述基底之间的第四反射表面；

物镜，其定位成将来自所述光源的光聚焦到所述第二反射表面和所述第三反射表面的至少一个上并接收从所述样品容器反射的光；

图像传感器，其包括定位成接收从所述样品容器反射的光的多个像素位置；

光束分离器，所述光束分离器布置在所述物镜和所述图像传感器之间的所述成像系统的光学返回路径中；

第一阻挡结构，其定位成阻止来自所述第一反射表面的反射到达所述图像传感器；以及

第二阻挡结构，其定位成阻止来自所述第四反射表面的反射到达所述图像传感器，所述第二阻挡结构具有框架、第一细长结构构件和第二细长结构构件和阻挡构件，所述第一细长结构构件和第二细长结构构件从所述框架延伸，所述阻挡构件具有阻挡面，所述阻挡面相对于所述框架的平面成角度，使得所述阻挡面实质上平行于所述光束分离器的光束分离面，所述阻挡构件具有三角形横截面以将光反射出所述光学返回路径，从所述样品容器反射的光经由所述光学返回路径从所述物镜返回所述图像传感器。

2.如权利要求1所述的成像系统，其中，所述第二阻挡结构定位在所述光学返回路径中以在所述光束分离器的输出处阻挡来自所述第四反射表面的反射。

3.如权利要求1所述的成像系统，其中，所述框架界定孔径，所述第一细长结构构件和所述第二细长结构构件，每个细长结构构件包括第一端和第二端，其中所述第一细长结构构件和第二细长结构构件在它们的第一端处连接到所述框架的相对侧，且其中所述第一细长结构构件和第二细长结构构件从所述框架平行于彼此并在与彼此相同的方向上延伸；以及

其中，所述阻挡构件是光学不透明阻挡构件，其定位成在所述第一细长结构构件和第二细长结构构件的各自的第二端之间延伸。

4.如权利要求3所述的成像系统，其中，所述第二阻挡结构被设计尺寸以布置成相邻于所述光束分离器。

5.如权利要求4所述的成像系统，其中，所述阻挡构件的所述阻挡面的宽度在2 mm和7mm之间。

6.如权利要求4所述的成像系统，其中，所述阻挡构件的所述阻挡面的宽度是被选择来阻挡来自所述样品容器的所述第四反射表面的反射光束而不与从所述第二反射表面和所述第三反射表面反射的光束干涉的宽度。

7.如权利要求3所述的成像系统，其中，所述第一阻挡结构包括孔径，所述孔径被设计尺寸以阻挡来自所述样品容器的所述第一反射表面的反射光束并允许从所述样品容器的所述第二反射表面和所述第三反射 表面反射的光束通过所述孔径。