[发明专利]一种低辐射透明电加热玻璃及其制备工艺

权利要求书

1.一种低辐射透明电加热玻璃，其特征在于：所述低辐射透明电加热玻璃包括位于底层的衬底，以及在衬底上依次沉积的介质膜层一、介质膜层二、阻挡层、纳米网状功能膜层、阻挡层、介质膜层三、介质膜层二、介质膜层一和耐磨损层。

2.根据权利要求1所述的低辐射透明电加热玻璃，其特征在于：所述衬底选用普通玻璃、超白玻璃或高硼硅玻璃中的任一种。

3.根据权利要求1所述的低辐射透明电加热玻璃，其特征在于：所述介质膜层一的介质薄膜材料选用Si₃N₄或SiO₂中的任一种。

4.根据权利要求1所述的低辐射透明电加热玻璃，其特征在于：所述介质膜层二的介质薄膜材料选用TiN或TiO₂中的任一种。

5.根据权利要求1所述的低辐射透明电加热玻璃，其特征在于：所述阻挡层的介质薄膜材料选用ZnO、AZO或BZO中的任一种。

6.根据权利要求1所述的低辐射透明电加热玻璃，其特征在于：所述纳米网状功能膜层的薄膜材料选用纳米银。

7.根据权利要求1所述的低辐射透明电加热玻璃，其特征在于：所述介质膜层三的介质薄膜材料选用NiCr或MCr中的任一种。

8.根据权利要求1所述的低辐射透明电加热玻璃，其特征在于：所述耐磨损层的薄膜材料选用氧化锆薄膜。

9.一种权利要求1所述的低辐射透明电加热玻璃的制备工艺，其特征在于：所述制备工艺包括如下步骤：

(1)采用真空镀膜、蒸发镀膜或溶胶凝胶工艺在衬底表面形成一层膜厚15nm～20nm的透明介质薄膜，形成介质膜层一；

(2)采用真空镀膜、蒸发镀膜或溶胶凝胶工艺在介质膜层一表面形成一层膜厚20nm～25nm的透明介质薄膜，形成介质膜层二；

(3)采用真空镀膜、蒸发镀膜或溶胶凝胶工艺在介质膜层二表面形成一层膜厚25nm～40nm的透明介质薄膜，形成阻挡层；

(4)通过掩膜法在阻挡层上通过真空镀膜或蒸发镀膜形成一层膜厚8nm～12nm具有多孔网状结构的金属导电层，进而形成纳米网状功能膜层；

(5)采用真空镀膜、蒸发镀膜或溶胶凝胶工艺在纳米网状功能膜层表面形成一层膜厚25nm～40nm的透明介质薄膜，形成阻挡层；

(6)采用真空镀膜、蒸发镀膜或溶胶凝胶工艺在阻挡层表面形成一层膜厚20nm～40nm的透明介质薄膜，形成介质膜层三；

(7)采用真空镀膜、蒸发镀膜或溶胶凝胶工艺在介质膜层三表面形成一层膜厚20nm～25nm的透明介质薄膜，形成介质膜层二；

(8)采用真空镀膜、蒸发镀膜或溶胶凝胶工艺在介质膜层二表面形成一层膜厚15nm～20nm的透明介质薄膜，形成介质膜层一；

(9)采用真空镀膜、蒸发镀膜或溶胶凝胶工艺在介质膜层一表面形成一层膜厚40nm～50nm的透明介质薄膜，形成耐磨损层，进而形成低辐射透明电加热玻璃。

10.根据权利要求9所述的低辐射透明电加热玻璃的制备工艺，其特征在于：所述步骤(4)纳米网状功能膜层的具体制备工艺包括如下步骤：

a.在阻挡层表面通过喷涂、原位反应法或者溶液浸泡提拉的方式涂布上一层具有纳米微球溶液，纳米微球溶液的PH为4～6，纳米微球的粒径为20～500nm；

b.将含有纳米微球溶液的衬底在纯水中通过清洗3～15次，得到微球覆盖率为15～75％的含有纳米微球溶液的衬底；

c.将清洗后的含有15～75％覆盖率的纳米微球溶液的衬底经过精密风刀风干后，形成表面附着微球颗粒的衬底；

d.通过将表面附着微球颗粒衬底采用真空镀膜、蒸发镀膜将功能金属薄膜沉积到衬底表面，沉积过程中控制膜厚不超过微球颗粒的半径；

e.通过擦拭、超声震荡或冲洗方式将衬底表面的微球颗粒去除，形成金属导电层；

f.将含有金属导电层的衬底表面通过精密丝网丝印或辊涂工艺涂布一层膜厚为50～100um的感光胶，再经过120～160℃烘箱烘干固化；

g.将设计好的加热丝图形通过激光光绘机生成菲林，将菲林和含有感光胶的衬底进行对位并放置于曝光机上进行曝光玻璃，形成掩模图形；

h.形成掩模图形后通过酸腐蚀将没有掩模图形遮盖的区域的金属导电层去除，再通过碱性感光胶掩模去除剂将掩模固化的感光胶去除后形成需要的金属导电网状结构，进而形成纳米网状功能膜层。