[发明专利]中心环及真空泵

说明书

本发明的课题是防止中心环的脱落。介于真空腔室与涡轮分子泵之间的中心环(60)包括：环主体(61)，包含嵌合于真空腔室的排气法兰的腔室侧圆筒部(65)、及嵌合于涡轮分子泵的吸气法兰的泵侧圆筒部(64)；防尘土侵入用的网(72)，设置在环主体(61)上；以及防脱落构造，防止在使涡轮分子泵的转子轴从铅垂方向向垂直方向倾斜的过程中中心环(60)从吸气法兰脱落。

技术领域

本发明涉及一种中心环及真空泵。

背景技术

用来对半导体制造装置或液晶面板制造装置等真空装置进行排气而形成为高真空的涡轮分子泵(turbo molecular pump)，包括交替配置的多段马达叶片及多段定子叶片。通过使形成有转子叶片的转子相对于定子叶片高速旋转，来排出气体。

在将涡轮分子泵安装到半导体制造装置等的真空腔室内时，有时会在真空腔室侧的法兰与涡轮分子泵的吸气法兰之间配置中心环作为密封零件 (参照专利文献1)。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2014-222044号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

当在真空腔室内安装涡轮分子泵时，在涡轮分子泵的吸气法兰上安装中心环之后，将吸气法兰与真空腔室侧的法兰加以结合。真空泵有直立放置安装在真空腔室内的方式、以及横卧放置安装在真空腔室内的方式。当采用横卧放置安装的方式时，预先在吸气法兰上安装中心环之后，使真空泵倾斜而安装到真空腔室内。因此，中心环有可能从吸气法兰上脱落。

[解决问题的技术手段]

(1)本发明的一个形态的中心环是介于真空腔室与真空泵之间的中心环，所述中心环包括：环主体，包括嵌合于真空腔室的腔室侧嵌合部的第一环嵌合部、以及嵌合于所述真空泵的泵侧嵌合部的第二环嵌合部；防尘土侵入构件，设置在环主体上；以及防脱落构造，防止所述中心环从所述真空泵的泵侧嵌合部脱落。

(2)在所述中心环中，优选的是，所述环主体是在圆周上的一处切断部或两处切断部经切断的一个环状构件或一对环状构件。

(3)(2)的优选防脱落构造是在所述切断部处使所述环主体的端面彼此具有间隙而配置。其是使所述环主体的周长缩短相当于所述间隙的长度而构成。

(4)更优选的中心环的环主体包括对沿内径方向弯曲时的刚性进行调节的缺口部。

(5)在所述中心环中，优选的是，所述防脱落构造只在所述第二环嵌合部，即，只在真空泵侧设置。

(6)在所述中心环中，优选的是，所述防脱落构造是将所述真空泵的泵侧嵌合部的直径与所述第二环嵌合部的直径的尺寸差设为过盈配合与过渡配合中的任一者的构造。

(7)本发明的其它形态的真空泵包括所述中心环、以及包含安装所述中心环的真空泵侧吸气法兰的泵主体。

[发明的效果]

根据本发明，中心环不可能从真空泵脱落。

附图说明

图1是表示实施方式的真空泵的内部构成的概略剖视图。

图2是从真空腔室500侧观察图1所示的夹具(clamp)1的配置的图。

图3(a)是从中心环60的朝向排气法兰510的安装面侧观察中心环60的顶视图，图3(b)是图3(a)的B-B线剖视图，图3(c)是图3(a) 的C-C线剖视图。

图4(a)- 图 4(b) 是说明中心环及吸气法兰内周面的外径尺寸、内径尺寸的示意图，图4(a)是俯视图，图4(b)是剖视图。