[发明专利]一种可实现液滴尺寸不依赖流量的微流控芯片在审

专利信息
申请号: 201810176538.6 申请日: 2018-03-03
公开(公告)号: CN108393103A 公开(公告)日: 2018-08-14
发明(设计)人: 刘赵淼;赵静;逄燕 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 沈波
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 微流控芯片 液滴 液滴生成 上层通道 芯片 几何参数 几何构型 驱动条件 驱动限制 下层通道 性能维持 连续相 两相流 微液滴 中间层 减小 均一 两相 观测 试验
【说明书】:

发明公开了一种可实现液滴尺寸不依赖流量的微流控芯片,属于微流控芯片技术领域。该微流控芯片突出界面张力及几何构型对液滴生成的影响,减小液滴尺寸对速度的依赖性。该微流控芯片包括上层通道结构,中间层和下层通道结构。上层通道由离散相通道、连续相通道、液滴生成腔、液滴观测腔连接组成;同时利用田口法减少试验次数,确定液滴生成腔的最优几何参数结构。本芯片使得液滴能均一稳定生成,不依赖两相流量的变化,有助于突破液滴生成的驱动限制,扩大芯片性能维持稳定的速度范围,使微液滴两相流能够适用于不同的驱动条件。

技术领域

本发明基于界面张力诱导下的微液滴生成通道结构,设计一种可满足液滴尺寸不依赖于流量的微流控芯片,属于微流控芯片技术领域。

背景技术

微流控芯片是指使用微管道(尺寸为数十到数百微米)处理或操纵微小流体的系统所涉及的科学和技术,是一门涉及化学、流体物理、微电子、新材料、生物学和生物医学工程的新兴交叉学科。与传统的分析平台相比,利用微流控芯片所制备的微液滴能有效的降低实验成本,实验中仅使用较少的量,可大大节约昂贵的生化试剂的使用,具有单分散性好;精确可控、大小均匀;生成频率快(数万赫兹,每秒可生成上百个液滴);混合充分、反应时间快;通量高、无交叉污染等优势。在DNA和聚合酶链反应分析、血液检测、蛋白质结晶、单细胞培养、颗粒合成等领域有广泛的应用。

目前实验中液滴微流控技术依赖于配套驱动设备所提供的精准液体流速,造成微液滴的生成对速度的依赖性尤为突出。这不仅使得微流控技术难以适用于快速简易的手动操作,限制了其在检测和反应等方面的应用,而且,常用驱动设备提供的流动速度具有波动性,容易造成微流控芯片的性能不稳定。因此,需要弱化液滴微流控技术对流速精度的要求,将不稳定的驱动输入条件转化为稳定的输出结果,以扩大微流控芯片适用的流速范围。田口方法是一种低成本、高效益的质量工程方法,它强调产品质量的提高不是通过检验,而是通过设计。田口方法可以分析各个几何参数的敏感性,确定最优参数组合,它是基于L9正交阵列(Orthogonal Array)实验实现参数优化,使用L9正交阵列使分析中所需的数量从34581个减至9个,可大大减少实验数量。

液体的流动速度是通过改变两相界面受力来影响液滴微流控芯片的功能。多相流动过程中,弱化与流动速度相关的作用力,突出几何结构和流动介质物性参数决定的界面张力,可降低两相流动速度对液滴生成及流动行为的影响。因此,本发明实现一种可使液滴尺寸对速度依赖性较小的基于界面张力诱导下的微流控芯片,并利用田口方法对通道几何尺寸进行完善,得到最优芯片结构。该芯片有助于突破液滴生成的驱动限制,扩大芯片性能维持稳定的速度范围,使微液滴两相流能够适用于不同的驱动条件。

发明内容

本发明基于界面张力诱导下的微通道结构,通过改变通道结构的几何尺寸,利用田口方法实验得到各个几何参数的敏感性,目的得到一种可实现液滴尺寸不依赖流量的微流控芯片。

本发明采用的技术方案为一种基于界面张力诱导下的微流控芯片,该微流控芯片基于界面张力诱导下的微通道结构通过改变几何参数,得到最优的参数结构。

该微流控芯片包括上层微通道1、中间层薄膜2、下层微通道3;上层微通道1包括离散相通道4、离散相入口5、连续相通道6、连续相入口7、驱动相通道8、驱动相入口9、液滴生成腔10、主通道11、液滴观测腔12、出口13;

下层微通道3包括凹槽14。离散相通道4和连续相通道6一端分别连接离散相入口5和连续相入口7;离散相通道4和连续相通道6另一端共同连接在液滴生成腔10上;液滴生成腔10另一端连接主通道11;驱动相入口9连接驱动相通道8后与主通道11共同连接在液滴观测腔12的一端;液滴观测腔12另一端连接出口13。上层微通道1和中间层薄膜2通过紫外线等离子键合机进行键合连接,再将下层微通道3中的凹槽14对准上层微通道1的液滴生成腔10,将下层微通道3与中间层薄膜2进行键合连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学,未经北京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810176538.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top