[发明专利]一种滤波方法有效
| 申请号: | 201810176365.8 | 申请日: | 2016-04-29 |
| 公开(公告)号: | CN108345054B | 公开(公告)日: | 2020-10-20 |
| 发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 蚌埠翰邦知识产权服务有限公司 |
| 主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00;G02B5/20;G02B6/02 |
| 代理公司: | 蚌埠幺四零二知识产权代理事务所(普通合伙) 34156 | 代理人: | 尹杰 |
| 地址: | 233000 安徽省蚌*** | 国省代码: | 安徽;34 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 滤波 方法 | ||
1.一种滤波方法,其特征在于,在如下滤波器上实现,所述的滤波器包括光纤衬底(1)、金属膜(2)和电介质层(3),光纤衬底(1)设置在金属膜(2)的正下方,电介质层(3)铺设在金属膜(2)的上表面,金属膜(2)上均匀排列设置有N个单位孔阵列结构(4),其特征在于:每个单位孔阵列结构(4)的中心设置有一个纳米狭缝(5);纳米狭缝(5)包括一个方形孔(5.2)和四个圆形孔(5.1);方形孔(5.2)和四个圆形孔(5.1)形成花朵形;其中两个圆形孔(5.1)与方形孔(5.2)两边相连接,水平设置,两个圆形孔(5.1)圆心与方形孔(5.2)中心在一条直线上,关于方形孔(5.2)对称;另外两个圆形孔(5.1)与方形孔(5.2)另外两边相连接,竖直设置,另外两个圆形孔(5.1)圆心与方形孔(5.2)中心在一条直线上,关于方形孔(5.2)对称;每个圆形孔(5.1)均与其中两个圆形孔(5.1)两两相连接,并且每个圆形孔(5.1)均与方形孔(5.2)相连接;纳米狭缝(5)贯通于金属膜(2)和电介质层(3)的上下表面;所述方法为:平面波从电介质层(3)的上表面垂直向下入射、并在金属膜(2)下表面出射或是平面波由金属膜(2)的下表面垂直向上入射、并在电介质层(3)的上表面透射;当平面波光束垂直入射于电介质层(3)的上表面或金属膜(2)的下表面时,相邻圆形孔产生的长程表面等离激元与方形孔产生的局域表面等离激元通过纳米狭缝(5)相互耦合,形成电磁场。
2.一种滤波方法,其特征在于,在如下滤波器上实现,所述的滤波器包括光纤衬底(1)、金属膜(2)和电介质层(3),光纤衬底(1)设置在金属膜(2)的正下方,电介质层(3)铺设在金属膜(2)的上表面,金属膜(2)上均匀排列设置有N个单位孔阵列结构(4),其特征在于:每个单位孔阵列结构(4)的中心设置有一个纳米狭缝(5);纳米狭缝(5)包括一个方形孔(5.2)和四个圆形孔(5.1);方形孔(5.2)和四个圆形孔(5.1)形成花朵形;其中两个圆形孔(5.1)与方形孔(5.2)两边相连接,水平设置,两个圆形孔(5.1)圆心与方形孔(5.2)中心在一条直线上,关于方形孔(5.2)对称;另外两个圆形孔(5.1)与方形孔(5.2)另外两边相连接,竖直设置,另外两个圆形孔(5.1)圆心与方形孔(5.2)中心在一条直线上,关于方形孔(5.2)对称;每个圆形孔(5.1)均与其中两个圆形孔(5.1)两两相连接,并且每个圆形孔(5.1)均与方形孔(5.2)相连接;纳米狭缝(5)贯通于金属膜(2)和电介质层(3)的上下表面;所述单位孔阵列结构(4)为正方形或长方形;所述方法为:平面波从电介质层(3)的上表面垂直向下入射、并在金属膜(2)下表面出射或是平面波由金属膜(2)的下表面垂直向上入射、并在电介质层(3)的上表面透射;当平面波光束垂直入射于电介质层(3)的上表面或金属膜(2)的下表面时,相邻圆形孔产生的长程表面等离激元与方形孔产生的局域表面等离激元通过纳米狭缝(5)相互耦合,形成电磁场。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于蚌埠翰邦知识产权服务有限公司,未经蚌埠翰邦知识产权服务有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810176365.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





