[发明专利]气体供给装置、气体供给方法和成膜方法

权利要求书

1.一种气体供给装置，使原料容器内的原料气化，将原料气体与载气一起供给到处理容器内，所述气体供给装置的特征在于，包括：

与所述原料容器的上游侧连接的、控制所述载气的流量的质量流量控制器；

与所述原料容器的下游侧连接的流量计；

一端与所述流量计的下游侧连接、另一端与所述处理容器的排气配管连接的压力调节通路；和

控制部，其进行控制使得在所述原料容器的更换之后不向所述处理容器内供给所述原料气体直至所述流量计的检测值稳定，其中，所述检测值是对由所述质量流量控制器控制为一定流量的所述载气的检测值，所述控制部在所述流量计的检测值的时间变化率在阈值以下时，判断为所述流量计的检测值已稳定；

在所述流量计的上游侧，汇合有供给稀释气体的稀释气体供给通路的下游侧的端部，

所述控制部在直至所述流量计的检测值稳定之前的期间，不向所述处理容器内供给所述原料气体，而是所述原料气体经所述压力调节通路以使所述载气和所述稀释气体的流量成为一定流量的方式被排气。

2.如权利要求1所述的气体供给装置，其特征在于：

所述原料是氯化钨的固体原料。

3.一种气体供给方法，其使用权利要求1所述的气体供给装置，使原料容器内的原料气化，将原料气体与载气一起供给到处理容器内，所述气体供给方法的特征在于：

以如下方式进行控制：在所述原料容器的更换后不向所述处理容器内供给所述原料气体直至与所述原料容器的下游侧连接的流量计的检测值稳定，其中，所述检测值是对由与所述原料容器的上游侧连接的质量流量控制器控制为一定流量的所述载气的检测值，在所述流量计的检测值的时间变化率在阈值以下时，判断为所述流量计的检测值已稳定。

4.一种成膜方法，通过反复进行原料气体供给步骤和还原气体供给步骤来成膜金属膜，所述原料气体供给步骤使用权利要求1所述的气体供给装置，使原料容器内的原料气化并将原料气体与载气一起供给到处理容器内，所述还原气体供给步骤向所述处理容器内供给还原所述原料气体的还原气体，所述成膜方法的特征在于，包括：

初始稳定化步骤，在所述原料容器的更换后，判断与所述原料容器的下游侧连接的流量计的检测值是否已稳定，其中，所述检测值是对由与所述原料容器的上游侧连接的质量流量控制器控制为一定流量的所述载气的检测值，在所述流量计的检测值的时间变化率在阈值以下时，判断为所述流量计的检测值已稳定；和

成膜步骤，在所述初始稳定化步骤中，在判断为所述流量计的检测值已稳定之后，向所述处理容器内供给所述原料气体来成膜所述金属膜。