[发明专利]成膜方法、显示基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201810172123.1 申请日: 2018-03-01
公开(公告)号: CN108389965B 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 范招康;彭锐 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00;H01L51/56
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 黄灿;张博
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 方法 显示 及其 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种成膜方法,其特征在于,包括:

向基板的待成膜区域喷墨打印墨水的带电液滴;

在待成膜区域的墨水干燥过程中,对待成膜区域施加电场,使得带电的墨水作振荡运动。

2.根据权利要求1所述的成膜方法,其特征在于,所述向基板的待成膜区域喷墨打印墨水的带电液滴包括:

使喷墨打印的液滴经过连接高压直流电源的充电电极,使得所述液滴带上电荷。

3.根据权利要求1所述的成膜方法,其特征在于,所述对待成膜区域施加电场包括:

对待成膜区域施加周期振荡电场。

4.根据权利要求1所述的成膜方法,其特征在于,

施加的电场方向与基板平行且与待成膜区域的边界平行;或

施加的电场方向垂直于墨水的液面。

5.根据权利要求1所述的成膜方法,其特征在于,墨水的溶剂包括水、二甘醇、甲苯或苯甲酸甲酯,墨水的溶质为有机电致发光器件的功能层材料。

6.一种显示基板的制作方法,其特征在于,采用如权利要求1-5中任一项所述的成膜方法在显示基板上制作功能膜层。

7.根据权利要求6所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述待成膜区域为所述显示基板的像素界定层限定出的像素区域。

8.根据权利要求7所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述功能膜层包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层和电子注入层中的一种或多种。

9.一种显示基板,其特征在于,采用如权利要求中6-8中任一项所述的制作方法制作得到。

10.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求9所述的显示基板。

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