[发明专利]结构光投射器、深度相机和电子装置在审

专利信息
申请号: 201810162435.4 申请日: 2018-02-27
公开(公告)号: CN108388022A 公开(公告)日: 2018-08-10
发明(设计)人: 白剑 申请(专利权)人: 广东欧珀移动通信有限公司
主分类号: G02B27/42 分类号: G02B27/42
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 张润
地址: 523860 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 边发射激光器 结构光投射器 准直元件 电子装置 深度相机 衍射光学元件 激光 发光面 单点发光 光源成本 激光图案 阵列结构 准直激光 发射 衍射 制作
【说明书】:

发明公开一种结构光投射器。结构光投射器包括边发射激光器、准直元件和衍射光学元件。边发射激光器用于发射激光。准直元件用于准直激光。衍射光学元件用于衍射准直元件准直后的激光以形成激光图案。边发射激光器包括发光面,发光面朝向准直元件。本发明还公开一种深度相机和电子装置。本发明实施方式的结构光投射器、深度相机和电子装置采用边发射激光器来发射激光,一方面边发射激光器较VCSEL阵列的温飘较小,另一方面,由于边发射激光器为单点发光结构,无需设计阵列结构,制作简单,结构光投射器的光源成本较低。

技术领域

本发明涉及光学技术领域,特别涉及一种结构光投射器、深度相机和电子装置。

背景技术

目前,结构光投射器中的光源多采用垂直腔面发射激光器(Vertical-CavitySurface-Emitting Laser,VCSEL)阵列,VCSEL阵列发出的光束经过衍射光学元件(diffractive optical elements,DOE)之后能够形成激光图案以用于检测深度,一方面,VCSEL阵列的温飘较大,另一方面,由于VCSEL阵列分布越不规则,结构光投射器生成的激光图案的不相关性越高,对应的结构光投射器深度检测精度就越高,然而,不规则分布的VCSEL阵列降低了制造效率,导致光源成本增加。

发明内容

本发明的实施例提供了一种结构光投射器、深度相机和电子装置。

本发明实施方式的结构光投射器包括边发射激光器、准直元件和衍射光学元件;所述边发射激光器用于发射激光,所述准直元件用于准直所述激光,所述衍射光学元件用于衍射所述准直元件准直后的激光以形成激光图案,所述边发射激光器包括发光面,所述发光面朝向所述准直元件。

本发明实施方式的深度相机包括:

所述结构光投射器;和

图像采集器,所述图像采集器用于采集由所述结构光投射器向目标空间中投射的所述激光图案。

本发明实施方式的电子装置包括:

壳体;和

所述深度相机,所述深度相机安装在所述壳体上并从所述壳体暴露以获取所述激光图案。

本发明实施方式的结构光投射器、深度相机和电子装置采用边发射激光器来发射激光,一方面边发射激光器较VCSEL阵列的温飘较小,另一方面,由于边发射激光器为单点发光结构,无需设计阵列结构,制作简单,结构光投射器的光源成本较低。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点可以从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解,其中:

图1是本发明某些实施方式的结构光投射器的结构示意图。

图2是本发明某些实施方式的边发射激光器的结构示意图。

图3是本发明某些实施方式的结构光投射器的部分结构示意图。

图4是本发明某些实施方式的结构光投射器的部分结构示意图。

图5是本发明某些实施方式的结构光投射器的部分结构示意图。

图6是本发明某些实施方式的结构光投射器的部分结构示意图。

图7是本发明某些实施方式的结构光投射器的部分结构示意图。

图8是本发明某些实施方式的结构光投射器的部分结构示意图。

图9是本发明某些实施方式的结构光投射器的部分结构示意图。

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