[发明专利]柔性基板及其制作方法在审
| 申请号： | 201810161890.2 | 申请日： | 2018-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN108385078A | 公开（公告）日： | 2018-08-10 |
| 发明（设计）人： | 邵源 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/20;C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 518006 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 金属粒子 金属膜 柔性基板 衬底 沉积 制作 衬底表面 衬底翘曲 衬底旋转 断裂现象 厚度不均 卷曲状态 旋转装置 卷曲 成膜 卷绕 平展 吸收 | ||
1.一种柔性基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：
将柔性衬底卷绕到旋转装置上；
控制所述柔性衬底旋转；
将金属粒子沉积到所述柔性衬底的表面；及
所述金属粒子在所述柔性衬底表面形成金属膜。
2.如权利要求1所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述金属粒子在所述柔性衬底表面形成金属膜之后还包括：
将所述柔性衬底远离所述金属膜的表面吸附在平坦基板上；
在所述金属膜上涂布、曝光、显影；及
解除真空吸附以将所述柔性衬底与所述平坦基板分离。
3.如权利要求1所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述金属粒子以平面靶材或弧面靶材为沉积源。
4.如权利要求1所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述金属膜至少为一层。
5.如权利要求1所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述金属粒子包括钼、铝、铜、氧化铟锡粒子中的至少一种。
6.如权利要求1所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述金属膜的厚度为300-450nm。
7.如权利要求1所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述柔性基板的材料为聚二甲基硅氧烷或聚亚酰胺中的一种。
8.如权利要求1所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，卷绕到旋转装置上的所述柔性衬底的数量至少为一个，相邻两个柔性衬底之间存在易断点。
9.如权利要求1所述的柔性基板的制作方法，其特征在于，所述金属粒子通过电磁溅射法沉积到所述柔性基板的表面。
10.一种柔性基板，其特征在于，所述柔性基板通过如权利要求1-9任一项所述的柔性基板的制作方法制得。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司，未经深圳市华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810161890.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
