[发明专利]一种PDMS柔性超疏水薄膜的制作方法

权利要求书

1.一种PDMS柔性超疏水薄膜的制作方法，其特征是，包括如下步骤：

a、清洗硅片

依次使用丙酮、异丙醇和去离子水对硅片进行超声清洗，然后烘干，获得清洁硅片；

b、制备单层光刻胶基底

在所述清洁硅片表面旋涂LOR光刻胶，旋涂厚度为3～5μm，然后在150-200℃烘烤5～10min，再冷却至室温，形成单层光刻胶基底；

c、制备双层光刻胶基底

在所述单层光刻胶基底表面旋涂SU8-2050光刻胶，旋涂厚度为40～60μm，然后先在65℃烘烤3min、再在90℃烘烤10min，最后冷却至室温，形成双层光刻胶基底；

d、制备倒悬结构模板

在所述双层光刻胶基底表面覆盖掩膜版并进行紫外曝光，紫外曝光的曝光剂量为200mJ/cm²、曝光时间为15～25s；然后烘烤使SU8-2050光刻胶固化；

采用SU8显影液对SU8-2050光刻胶进行第一阶段显影，显影时间3～5min，使未曝光区域的SU8-2050光刻胶被去除、露出位于其下的LOR光刻胶；

再采用TMAH显影液对LOR光刻胶进行第二阶段显影，显影时间2～4min，使未曝光区域露出的LOR光刻胶被刻蚀，且随着显影时间的加长，LOR光刻胶的刻蚀区域向位于曝光区域SU8-2050光刻胶下方的LOR光刻胶扩散，控制扩散深度不小于1μm，即形成倒悬结构；将其清洗并吹干后置于热台上90℃硬烘30min，获得倒悬结构模板；

e、利用柔性复制工艺制备成品

将所述倒悬结构模板在肥皂水中浸泡1min，随后置于热台上烘烤20min，以进一步降低其表面能；

然后将PDMS旋涂液旋涂到所述倒悬结构模板的表面，经热固化后剥离，所得厚度在100-150μm的PDMS薄膜即为PDMS柔性超疏水薄膜。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征是：

步骤b中，旋涂的初始转速500rpm、持续10s，然后加速至1500～2000rpm、持续30s；

步骤c中，旋涂的初始转速500rpm、持续5s，然后加速至2000～3000rpm、持续30s。

3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征是：步骤d中，紫外曝光采用接触曝光方式，光源波长为365nm。

4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征是：步骤d中，所述烘烤是先在65℃烘烤5min，再升温至95℃烘烤10min，最后冷却至室温。

5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征是：步骤e中，旋涂的转速为800～1000rpm、时间为30～40s；步骤e中，热固化温度为80℃、时间为30min。

6.根据权利要求1所述的制作方法，其特征是：步骤e中的所述PDMS旋涂液是由Sylgard184型PDMS预聚体和固化剂按质量比10:1混合获得。