[发明专利]基于化学发光法的检测方法及装置

权利要求书

1.一种基于化学发光法的检测方法，其特征在于，包括：

将吸附有抗体的多个二氧化硅片置于包含多种抗原的待检测样品中，每一个二氧化硅片的厚度不同且所吸附的抗体不同；

待所述二氧化硅片所携带的抗体与待检测样品中的抗原反应完全，按照化学发光法处理由反应完全的抗原-抗体所包被的二氧化硅片，得到多个待检测二氧化硅片；

分离所述多个待检测二氧化硅片，通过光源照射使得分离后的多个待检测二氧化硅片被激发出多组荧光，并反射至光电倍增管采集处理得到对应于荧光的多组发光量，每一组发光量对应于一种二氧化硅片厚度；

根据二氧化硅片厚度所对应的发光量与抗原之间的关联关系，由多组发光量关联得到所述待检测样品中的多种抗原。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述二氧化硅片的厚度在40微米至60微米之间。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光源为激光器，中心波长为840纳米。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述多组荧光的波长在400纳米至800纳米之间。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述分离所述多个待检测二氧化硅片，包括：

将所述多个待检测二氧化硅片铺设于一平面。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过光源照射使得分离后的多个待检测二氧化硅片被激发出多组荧光，包括：

由所述光源发出相干光照射至透射镜；

经由所述透射镜透射至分离后的多个待检测二氧化硅片；

分离后的多个待检测二氧化硅片被激发出多组荧光，并反射至所述光电倍增管。

7.如权利要求1至6任一项所述的方法，其特征在于，所述待所述二氧化硅片所携带的抗体与待检测样品中的抗原反应完全，按照化学发光法处理由反应完全的抗原-抗体所包被的二氧化硅片，得到多个待检测二氧化硅片，包括：

待所述二氧化硅片所携带的抗体与待检测样品中的抗原反应完全，针对反应完全的抗原-抗体所包被的二氧化硅片，进行包含多余抗体的待检测样品清洗；

向反应完全的抗原-抗体所包被的二氧化硅片通入荧光标记物，使得所述荧光标记物与该二氧化硅中抗原完全反应，进而结合至该二氧化硅片上；

针对结合了荧光标记物的二氧化硅片，对过量的荧光标记物进行清洗，形成所述多个待检测二氧化硅片。

8.一种基于化学发光法的检测装置，其特征在于，包括：

放置模块，用于将吸附有抗体的多个二氧化硅片置于包含多种抗原的待检测样品中，每一个二氧化硅片的厚度不同且所吸附的抗体不同；

反应模块，用于待所述二氧化硅片所携带的抗体与待检测样品中的抗原反应完全，按照化学发光法处理由反应完全的抗原-抗体包被的二氧化硅片，得到多个待检测二氧化硅片；

激发模块，用于分离所述多个待检测二氧化硅片，通过光源照射使得分离后的多个待检测二氧化硅片被激发出多组荧光，并反射至光电倍增管采集处理得到对应于荧光的多组发光量，每一组发光量对应于一个二氧化硅片；

检测模块，用于根据二氧化硅片的厚度所对应发光量与抗原之间的关联关系，由多组发光量关联得到所述待检测样品中的多种抗原。

9.如权利要求8所述的装置，其特征在于，所述二氧化硅片的厚度在40微米至60微米之间。

10.一种基于化学发光法的装置，其特征在于，包括：

处理器；

存储器，所述存储器上存储有计算机可读指令，所述计算机可读指令被所述处理器执行时，实现如权利要求1至7中任一项所述的基于化学发光法的检测方法。