[发明专利]一种可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层依次由第一氮化硅层、第一氧化锌铝层、第一金属镍铬层、金属银层、第二金属镍铬层、第二氧化锌铝层和第二氮化硅层组成，所述第一氮化硅层的厚度与第二氮化硅层的厚度相同，所述第一氧化锌铝层的厚度与第二氧化锌铝层的厚度相同，所述第一金属镍铬层的厚度与第二金属镍铬层的厚度相同。

2.根据权利要求1所述的可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基片的厚度为5-10mm。

3.根据权利要求2所述的可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基片的厚度为8mm。

4.根据权利要求1所述的可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化硅层的厚度为40-50nm，所述第一氧化锌铝层的厚度为15-22nm，所述第一金属镍铬层的厚度为0.5-2nm。

5.根据权利要求4所述的可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化硅层的厚度为45nm，所述第一氧化锌铝层的厚度为20nm，所述第一金属镍铬层的厚度为1nm。

6.根据权利要求1所述的可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述金属银层的厚度为10-20nm。

7.根据权利要求6所述的可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述金属银层的厚度为14nm。

8.一种可钢化低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、选择5-10mm厚度的玻璃基片，按预设尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；

S2、将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10^-3Pa，线速度设置为2-4m/min；

S3、将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜，设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为100-120KW，在玻璃基片上溅射厚度为40-50nm的第一氮化硅层；

S4、设置第二高真空磁控溅射镀膜设备的功率为20-24KW，在玻璃基片上溅射厚度为15-22nm的第一氧化锌铝层；

S5、设置第三真空磁控溅射镀膜设备的功率为2-3KW，在玻璃基片上溅射厚度为0.5-2nm的第一金属镍铬层；

S6、设置第四真空磁控溅射镀膜设备的功率为4-4.5KW，在玻璃基片上溅射厚度为10-20nm的金属银层；

S7、设置第五真空磁控溅射镀膜设备的功率为2-3KW，在玻璃基片上溅射厚度为0.5-2nm的第二金属镍铬层；

S8、设置第六高真空磁控溅射镀膜设备的功率为20-24KW，在玻璃基片上溅射厚度为15-22nm的第二氧化锌铝层；

S9、设置第七高真空磁控溅射镀膜设备的功率为100-120KW，在玻璃基片上溅射厚度为40-50nm的第二氮化硅层；即得可钢化低辐射镀膜玻璃。

9.根据权利要求8所述的可钢化低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述S1中选取8mm厚度的玻璃基片。

10.根据权利要求8所述的可钢化低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述S3中第一氮化硅层的厚度为45nm，所述S4中第一氧化锌铝层的厚度为20nm，所述S5中第一金属镍铬层的厚度为1nm。