[发明专利]处理气体中污染物的等离子体设备

权利要求书

1.一种处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，包括：

处理腔，具有气流入口端及气流出口端，待处理的气体从气流入口端进入，从气流出口端流出；

若干电极，分布式地固定于所述处理腔的内壁，所述若干电极用于产生等离子体以对流经所述处理腔的待处理的气体进行等离子体处理以降解气体中的污染物；

其中，每个电极均包括基底、柱状结构阵列以及针状结构阵列，所述柱状结构阵列形成在所述基底上，所述柱状结构阵列包括若干柱状结构；所述针状结构阵列形成在所述若干柱状结构外的所述基底上以及所述若干柱状结构的底部，所述针状结构阵列包括若干针状结构。

2.如权利要求1所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，每个电极独立地接入外部驱动电路，以独立地由外部电路控制产生等离子体。

3.如权利要求2所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，该设备还包括气体传感器，设置在所述处理腔内，用于实时采集所述处理腔内的气体的浓度信息，并将采集到的气体的浓度信息反馈给外部控制电路；所述外部控制电路根据接收到的气体的浓度信息调整所述外部驱动电路的驱动参数。

4.如权利要求3所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，所述处理腔的气流入口端以及气流出口端均设置有所述气体传感器。

5.如权利要求3或4所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，所述若干电极中的部分电极还接入外部传感驱动信号，用作所述气体传感器。

6.如权利要求1所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，所述若干电极在所述处理腔的轴向等间距分布，在处理腔的径向截平面上等圆心角分布。

7.如权利要求6所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，在轴向位置相同的平面上的电极的数量不少于2个。

8.如权利要求6所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，所述电极的轴向位置不少于2种。

9.如权利要求6所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，不同径向截平面上的电极在同一径向截平面上的投影重合或者呈角度差排列。

10.如权利要求1所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，还包括水洗或滤芯前置处理段，所述水洗或滤芯前置处理段设置在所述处理腔的气流入口端。

11.如权利要求1或10所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，还包括臭氧处理段，所述臭氧处理段设置在所述处理腔的气流出口端。

12.如权利要求1所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，所述处理腔的内径不大于300毫米，所述电极的尺寸不大于3厘米。

13.如权利要求1所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，所述若干柱状结构的顶端和/或侧壁上也形成有针状结构。

14.如权利要求1所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，所述针状结构的顶端与金属颗粒形成异质结结构。

15.如权利要求1所述的处理气体中污染物的等离子体设备，其特征在于，所述处理腔的数量为多个，多个处理腔串行连接或者并行连接。