[发明专利]一种Si3有效

专利信息
申请号: 201810140991.1 申请日: 2018-02-11
公开(公告)号: CN108178636B 公开(公告)日: 2020-12-25
发明(设计)人: 李庆刚;王志;史国普;黄世峰;程新 申请(专利权)人: 济南大学
主分类号: C04B35/584 分类号: C04B35/584;C04B35/622;C04B35/634
代理公司: 济南泉城专利商标事务所 37218 代理人: 李桂存
地址: 250022 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 si base sub
【权利要求书】:

1.一种Si3N4/SiC复合吸波陶瓷的制备方法,其特征在于,该复合吸波陶瓷物相组成为Si3N4、SiC和石墨烯;所述Si3N4、SiC和石墨烯的质量比为95:5:0.3;具体包括以下步骤:

(1)制备Si3N4/SiC复合吸波陶瓷的生坯:将Si3N4粉末、SiC粉体、石墨烯和无水乙醇混合,在室温下进行磁力搅拌及超声分散20min得到混合浆料;随后将混合浆料放入聚四氟乙烯罐中进行行星式球磨12小时,球磨介质为氮化硅球,分散剂为1wt%聚乙二醇;球磨后的浆料放入真空干燥箱中在80℃下干燥2h得混合粉体;然后经过造粒、陈腐24h后过200目筛备用;将混合粉末利用压片机预成型样品,再利用冷等静压机制备Si3N4/SiC生坯;

(2)烧结:生坯于高纯氮气气氛中高温烧结,得Si3N4/SiC复合吸波陶瓷。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述Si3N4粉末、SiC粉体、石墨烯及无水乙醇的质量比为95:5:0.3:20。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述Si3N4粉末的平均粒径为300nm;所述SiC粉体的平均粒径为200nm。

4.根据权利要求1-3任一项所述的制备方法,其特征在于,所述压片机的成型压力为10MPa,保压时间2min。

5.根据权利要求1-3任一项所述的制备方法,其特征在于,所述利用冷等静压机制备Si3N4/SiC生坯为200MPa下保压2min。

6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述高温烧结为1650-1750℃、0.1-4MPa条件下烧结1-2h,升温速度为10℃/分钟。

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